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實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。
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POLOS?BEAMXLMk2無掩模光刻機-0.1μm重復(fù)性和6“平臺行程-0.8微米分
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POLOS?BEAMMk2無掩模光刻機-0.1μm重復(fù)性和4“平臺行程-分辨率為0.8
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日本桌面臺式無掩膜光刻機PALETDDB-701與傳統(tǒng)的光刻工藝中使用鉻玻
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臺式光刻機參數(shù):1.最大曝光面積:160mm*160mm。⒉.曝光分辨率:1um(
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實驗室光刻機參數(shù):1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式
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產(chǎn)品名稱:無掩膜光刻機產(chǎn)品型號:ABN-MLM-001產(chǎn)品簡介:無掩膜光
