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參考價: | 面議 |
- 產(chǎn)品型號
- OTSUKA/日本大塚 品牌
- 代理商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問次數(shù):87更新時間:2025-02-22 11:26:45
- 聯(lián)系人:
- 馬經(jīng)理/冉經(jīng)理
- 電話:
- 18284451551冉經(jīng)理
- 手機:
- 19938139269,18284451551
- 地址:
- 中國四川省成都市郫都區(qū)創(chuàng)智東二路58號綠地銀座A座1118
- 個性化:
- www.fujita-cd.cn
- 網(wǎng)址:
- www.fujita-cn.com
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產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
特點: 采用具有高亮度和色度精度的光譜方法(衍射光柵), 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可測量, 對應(yīng)CIE推薦的寬波長范圍(355 nm至835 nm) 光學(xué)系統(tǒng)降低了...
日本Otsuka大塚GP series分光配光測量系統(tǒng)-成都藤田科技提供
產(chǎn)品信息
特殊長度
● 支持長達 2400 毫米的 LED 照明燈具的光分布測量
● 還支持有機EL和大型顯示器的光分布測量
● 可以自動控制2軸測角儀測量每個角度的光譜分布,并通過球帶系數(shù)法獲得總光譜通量、總光通量、色度、色溫等。
● 采用新型檢測器,可進行寬動態(tài)范圍測量與 IESNA LM-75 兼容
● GP-2000 兼容 Type B 和 Type C
● 支持紫外和近紅外區(qū)域的配光測量
● 可提供發(fā)光強度標準燈泡(JCSS)
評價項目
發(fā)光強度角分布(配光)
光譜輻射通量(光譜)
飽和度坐標 (u', v') [JIS Z8781-5]
飽和度坐標 (x, y) [JIS Z 8724]
顯色指數(shù)(Ra、R1 至 R15)[JIS Z 8726]
相關(guān)色溫和 Duv [JIS Z 8725]
主波長(Dominant)和刺激純度(Purity)[JIS Z8781-3]
IES(符合 LM63-2002 和 JIS Z8105-5)文件
* 1 IES分析軟件[大冢電子制造]也可以讀取和分析其他公司的光分布測量設(shè)備計算出的IES文件。
規(guī)格
模型 | GP-500 *1 | GP-1100 *1 | GP-2000 |
光學(xué)系統(tǒng)*2 | 2軸測角儀 | ||
θφ坐標系 | θφ坐標系 | αβ坐標系/θφ坐標系 | |
光路長度 | 500 毫米或更小 | 500-1500mm | 1500 毫米或更多 |
對應(yīng)樣品 | LED芯片 | 通用照明 | 一般照明,包括直管燈 |
模塊 | |||
探測器 | 多通道光譜儀 | ||
測量波長范圍 *3 | 220nm-2500nm | ||
評價項目 | 光強度的角度分布(光分布) 光譜輻射通量(spectrum) 色度坐標(u',v')[JIS Z8781-5] 色度坐標(x,y)[JIS Z 8724] ·主要波長(Dominant)和刺激純度(Purity)[JIS Z8781-3] ·相關(guān)色溫和Duv[JIS Z 8725] ·色彩性能評價數(shù)(Ra,R1至R15)[JIS Z 8726] ·IES(LM63-2002)和 JIS Z 8105-5 兼容) |
* 1 可以進行光譜輻射的光分布測量 * 2 兼容IESNA LM-75 * 3 可以選擇檢測器的波長范圍
* 4 IES 分析軟件[大冢電子制造] 由另一家公司的光分布測量設(shè)備計算。IES 文件可以閱讀和分析
配光測量方法中的坐標系類型(JIS C 8105-5)
坐標系 類型 | 相對于極軸的傾斜角 | 以極軸為旋轉(zhuǎn)中心的傾斜角 | IESNA LM-75 符號 | ||
(垂直角) | (水平角) | ||||
角標 | 角度范圍 | 角標 | 角度范圍 | ||
αβ坐標系 | α | -90°≤α≤90° | β | -180°≤β<180° | B型 |
θφ坐標系 | θ | 0°≤θ≤180° | θ | 0°≤φ<360° | C型 |
設(shè)備配置
核心特點:
超大基板全覆蓋:專為下一代尺寸玻璃基板設(shè)計(支持超長/超寬規(guī)格),可高效測量LCD、TFT、有機EL等大型面板,兼容PI、ITO、SiN、介電層等復(fù)雜膜層結(jié)構(gòu)。
納米級精度與秒級速度:采用分光干涉+AI算法技術(shù),單點測量時間<1秒,膜厚精度±0.1nm,光學(xué)常數(shù)(n/k)解析<0.5%,滿足量產(chǎn)級質(zhì)量控制需求。
全場景適配性:從研發(fā)實驗室到自動化產(chǎn)線,支持在線(inline)集成,可定制XYZ多軸平臺,實現(xiàn)基板全域厚度分布映射與缺陷快速篩查。
高速量產(chǎn)優(yōu)化:每小時可檢測超3000點,支持多探頭并行測量,大幅提升玻璃基板(如G8/G10)產(chǎn)線效率,降低設(shè)備綜合成本(CoO)。
超薄與超厚膜通吃:量程覆蓋1nm至200μm,適用于OC(光學(xué)膠)、Resist(光刻膠)等軟膜與硬質(zhì)涂層的精準厚度控制。
低維護:非接觸式測量設(shè)計,無探針損耗,長期使用穩(wěn)定性達99.8%,搭配遠程診斷功能,減少停機風(fēng)險。
日本Otsuka大塚GP series分光配光測量系統(tǒng)-成都藤田科技提供