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產品簡介
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
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日本ULVAC愛發(fā)科半導體干法刻蝕設備研發(fā)
產品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導體干法刻蝕設備研發(fā)
日本ULVAC愛發(fā)科半導體干法刻蝕設備研發(fā)
NLD干法刻蝕設備研發(fā)NLD-570
研發(fā)用NLD干法蝕刻 NLD-570是ULVAC原創(chuàng)開發(fā)的使用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干法蝕刻裝置。
特征
與ICP法相比，NLD具有更低的壓力、更高的密度和更低的電子溫度等離子，因此適合加工石英、玻璃、晶體、LN、LT基板等。
耐熱玻璃和硼硅酸鹽玻璃等雜質較多的玻璃可以蝕刻出優(yōu)異的形狀和表面光滑度。
厚膜抗蝕劑還可用作石英和玻璃深蝕刻（100μm以上）的掩模。
可進行高速蝕刻（石英>1μm/min、Pyrex>0.8μm/min）
可以添加盒室。
目的
光學器件（衍射光柵、調制器、光波導、光開關等）、凹凸微透鏡、光子晶體、流體路徑（μ-TAS）創(chuàng)建等。
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