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當(dāng)前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>元器件高低溫測(cè)試機(jī)>>半導(dǎo)體?溫控設(shè)備>> FLTZ-204WThermal Inducing System氣流溫度沖擊系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)FLTZ-204W
品 牌冠亞恒溫
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地無錫市
更新時(shí)間:2025-03-25 13:00:21瀏覽次數(shù):34次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)半導(dǎo)體溫控機(jī) 元器件循環(huán)制冷機(jī)
Thermal Inducing System氣流溫度沖擊系統(tǒng)
封裝測(cè)試領(lǐng)域溫控設(shè)備 可靠性驗(yàn)證chiller
半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備 材料研究控溫Chiller
存儲(chǔ)單元分區(qū)控溫控設(shè)備 溫度模擬Chiller
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-50萬 |
---|---|---|---|
冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
Thermal Inducing System氣流溫度沖擊系統(tǒng)
Thermal Inducing System氣流溫度沖擊系統(tǒng)
高低溫氣流溫度沖擊系統(tǒng)滿足半導(dǎo)體、航天等多場(chǎng)景需求,冠亞恒溫高低溫氣流溫度沖擊系統(tǒng)AES系列在原有配置的基礎(chǔ)上還能接受定制,滿足客戶需求。
一、技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)
1. 溫控性能突破
更寬溫域:從傳統(tǒng)-55℃~300℃擴(kuò)展至-100℃~500℃,支持半導(dǎo)體(SiC、GaN)與超導(dǎo)材料測(cè)試。
更快溫變速率:制冷技術(shù)推動(dòng)溫變速率適配3D封裝芯片的瞬時(shí)熱應(yīng)力模擬。
納米級(jí)控溫精度:基于量子傳感器與AI動(dòng)態(tài)補(bǔ)償算法,控溫精度滿足制程芯片的原子級(jí)熱分析需求。
2. 多物理場(chǎng)耦合測(cè)試
復(fù)合環(huán)境模擬:集成振動(dòng)、濕度、真空模塊,滿足車規(guī)級(jí)芯片與航天器件的多維度可靠性驗(yàn)證。
原位分析技術(shù):結(jié)合拉曼光譜、X射線衍射,實(shí)時(shí)觀測(cè)材料熱變形與微觀結(jié)構(gòu)演變。
2. 模塊化與微型化設(shè)計(jì)
芯片級(jí)測(cè)試設(shè)備:微型熱流罩支持晶圓級(jí)在線測(cè)試,成本降低。
可擴(kuò)展架構(gòu):通過更換模塊適配不同溫域與功能(如添加輻射加熱或濕度控制)。
二、半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用案例
1、3D IC封裝熱應(yīng)力測(cè)試
需求:驗(yàn)證TSV(硅通孔)與混合鍵合結(jié)構(gòu)在-55℃~150℃循環(huán)下的可靠性。
方案:熱流儀以80℃/min速率完成溫度循環(huán),同步監(jiān)測(cè)電阻與形變數(shù)據(jù)。
2、車規(guī)芯片認(rèn)證
需求:滿足-40℃~150℃溫度循環(huán)、濕熱老化等嚴(yán)苛測(cè)試。
方案:多工位熱流罩并行測(cè)試8個(gè)ECU,溫變速率50℃/min,濕度精度±2%RH。
3、GaN功率器件熱阻優(yōu)化
需求:降低GaN HEMT器件的結(jié)到外殼熱阻,提升散熱效率。
方案:熱流儀結(jié)合紅外熱成像,定位熱點(diǎn)并優(yōu)化封裝結(jié)構(gòu)。
4、Chiplet異構(gòu)集成驗(yàn)證
需求:驗(yàn)證多芯片模塊(MCM)在嚴(yán)苛溫度下的信號(hào)完整性。
方案:熱流儀在-65℃~125℃下同步施加高頻信號(hào),監(jiān)測(cè)延時(shí)與誤碼率。
5、制程芯片(2nm)電遷移測(cè)試
需求:評(píng)估銅互連線在高溫與高電流密度下的壽命。
方案:熱流儀以±0.1℃精度控溫,結(jié)合四探針法實(shí)時(shí)測(cè)量電阻漂移。
高低溫氣流溫度沖擊系統(tǒng)其技術(shù)突破與半導(dǎo)體行業(yè)的準(zhǔn)確化、集成化需求深度耦合。冠亞恒溫等企業(yè)正通過持續(xù)創(chuàng)新,為全球客戶提供更準(zhǔn)確的可靠性測(cè)試解決方案。
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