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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池 |
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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
kSA SpectR 光譜反射率測試設(shè)備是一種用于測量光譜絕對反射率，L*a*b*成色值和生長速率的非接觸式測量設(shè)備。該工具具有多種在線監(jiān)控和過程控制的應(yīng)用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)。該設(shè)備主要應(yīng)用于監(jiān)控測量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。
kSA SpectR 光譜反射率測試設(shè)備的光學(xué)鏡組被配置為鏡面反射的幾何形狀。在這種測量原理中，薄膜每生長出一個(gè)新layer，程序就會自動擬合，將已有的所有基底和薄膜layer視為一個(gè)新的虛擬基底。kSA SpectR可以同時(shí)以多個(gè)波長進(jìn)行測量，每個(gè)波長都具有潛在的特性。此設(shè)備可在選定的波長范圍內(nèi)測量自定義光譜特征，如反射率的最小值、最大值、拐點(diǎn)或基線散射水平。
測量實(shí)例
850 nm DBR的光譜反射率
在GaAs襯底上生長250nm的AlAs和500nm的GaAs時(shí)，532和940nm下的反射率及其擬合曲線
AlAs生長期間的生長速率，光學(xué)常數(shù)和反射率實(shí)時(shí)擬合曲線
AlAs和GaAs生長的未經(jīng)校正的高溫計(jì)測量結(jié)果和經(jīng)過校正的ECP溫度
GaAs薄膜生長過程中單個(gè)反射率振蕩周期圖
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