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武漢賽斯特精密儀器有限公司
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PLUTO-M等離子清洗機/處理機
  • PLUTO-M等離子清洗機/處理機
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貨物所在地:湖北武漢市

地: 江岸區(qū)興業(yè)路136號工業(yè)廠房(二期)1棟12層車間1

更新時間:2025-01-04 21:00:22

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PLUTO-M等離子清洗機/處理機 是針對于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實驗室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息,分析應(yīng)用需求,將多年設(shè)計和制造經(jīng)驗應(yīng)用于小型化,多功能的等離子體表面處理設(shè)備。

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產(chǎn)品特點:

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,同時具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

電源功率為200W,覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設(shè)計,可調(diào)整電極之間距離,調(diào)整等離子體濃度和強度,大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061航空鋁合金,配件材質(zhì)精良,保證設(shè)備穩(wěn)定高效運行

樣品處理面積可達125mm(大處理面積可達200mm,如有需求請咨詢銷售人員)

4.3寸工業(yè)級觸摸屏,操作簡單,可設(shè)置多種實驗參數(shù)

性能穩(wěn)定可靠,質(zhì)量穩(wěn)定,自主研發(fā),售后有保障

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產(chǎn)品參數(shù):

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極:兩個自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金

3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz

5. 功率:0-200W連續(xù)可調(diào),精度1W

6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標配1路氣體

7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態(tài),

可顯示設(shè)置值與實際值,便于實時控制。

可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置:一鍵急停保護按鈕

等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M參數(shù)(標準配置)

外部尺寸

404*640*515mm

 

真空腔尺寸

直徑210mm*230mm

不銹鋼腔體

電極尺寸

125*125mm

多空自適應(yīng)平板電極

等離子體發(fā)生器

RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz

自適應(yīng)阻抗匹配電源

功率

0-200W連續(xù)可調(diào)

精度1W

真空計

熱電偶真空計 0-1000mT

 

供氣

1路氣體

6mm國標連接件(軟管)

控制方式

4.3寸觸摸屏

 

可 選 配 置

ALC

純鋁腔體

 

RF-300

等離子體發(fā)生器

頻率13.56MHz ,0-300W自動阻抗匹配電源

可調(diào)電極

可調(diào)節(jié)電極間距

電極間距20-60mm可調(diào),改變等離子體場濃度特性

CM裝置

沉積鍍膜模塊

用于改變表面特性:

1.    沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

2.    沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

3.    沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果。

GP裝置

氣體純化裝置

 

PPU

粉體處理裝置

用于處理微納米級別顆粒

 

氣體收集裝置

用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體

 

小型氧氣發(fā)生器

用于制備氧氣,可取代氧氣罐

 

氣體混合裝置

可以根據(jù)可以要求進行混氣設(shè)計

 

感應(yīng)耦合模塊

感應(yīng)耦合等離子體裝置

 

加熱電極模塊

電極可以加熱,室溫~200度可調(diào)。

 

光譜儀模塊

可以增加光譜儀的接口,檢測等離子體光譜變化

 

電極轉(zhuǎn)換模塊

可以自由變換電極設(shè)計,樣品可以放在射頻電極上,也可以放在地電極上。從而實現(xiàn)不同的處理效果。

 

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