一體式磁控濺射鍍膜機(jī)為高真空多功能三靶位（永磁靶）磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，系統(tǒng)可用于開(kāi)發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜(需配射頻電源)、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等。系統(tǒng)主要由濺射室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、直流電源、全自動(dòng)匹配射頻電源、樣品臺(tái)、樣品加熱爐、泵抽系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成?？蓪?shí)現(xiàn)自動(dòng)鍍膜控制。真空室采用臥式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，有利于靶材更換及裝卸樣品，內(nèi)部裝有便于更換的防污襯板，減少真空室污染，利于整體清潔。鍍膜工藝壓力控制采用電動(dòng)插板閥+MFC自動(dòng)控制，保證鍍膜鍍膜工藝具有較高的可靠性、穩(wěn)定性和重復(fù)性。