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| 靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 等 | 靶材尺寸 | 50mm |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
| 濺射氣體 | 根據(jù)需求通氣 | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉(cāng)尺寸 | φ160x160mm | 樣品臺(tái)尺寸 | 50mm |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD，該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對(duì)提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。設(shè)備具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)單靈活、性能穩(wěn)定、易維護(hù)等特點(diǎn)。設(shè)備可適用于不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質(zhì)；可制備單質(zhì)金屬層如鈦、鉻、銀、銅或金屬化合物膜層如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等；可實(shí)現(xiàn)深黑色、爐內(nèi)金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍(lán)、亮銀色等顏色。
mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
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