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金屬掩膜版該如何選購(gòu)表面檢查燈？
閱讀：1711 發(fā)布時(shí)間：2021-11-26LUYOR-3320新款LED平行光表面檢查燈可用于檢查金屬掩膜版的表面質(zhì)量
LUYOR-3320采用亮度為10顆大功率led光源，窄角度直射透鏡，光束集中，不照射操作者眼睛，不刺眼，適合長(zhǎng)時(shí)間工作；可手持操作，也可以通過(guò)臺(tái)式支架作為臺(tái)式檢查燈使用?？梢远嗯_(tái)組合，檢查各種尺寸屏幕，用戶也可以根據(jù)需求選擇多波段光源：白光、特殊綠光，黃光。
什么是金屬掩模版？
金屬掩模版又稱光罩：fine metal mask，縮寫：FMM.
光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質(zhì)：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過(guò)電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會(huì)被顯影出來(lái)，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應(yīng)用于對(duì)集成電路進(jìn)行投影定位，通過(guò)集成電路光刻機(jī)對(duì)所投影的電路進(jìn)行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序?yàn)椋浩毓?，顯影，去感光膠，最后應(yīng)用于光蝕刻。
什么是光刻？
光刻（英語(yǔ)：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說(shuō)的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
首先，通過(guò)金屬化過(guò)程，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過(guò)光掩膜照射在光刻膠上，可以對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性照射（曝光）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過(guò)烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。
上述步驟完成后，就可以對(duì)襯底進(jìn)行選擇性的刻蝕或離子注入過(guò)程，未被溶解的光刻膠將保護(hù)襯底在這些過(guò)程中不被改變。
刻蝕或離子注入完成后，將進(jìn)行光刻的最后一步，即將光刻膠去除，以方便進(jìn)行半導(dǎo)體器件制造的其他步驟。通常，半導(dǎo)體器件制造整個(gè)過(guò)程中，會(huì)進(jìn)行很多次光刻流程。生產(chǎn)復(fù)雜集成電路的工藝過(guò)程中可能需要進(jìn)行多達(dá)50步光刻，而生產(chǎn)薄膜所需的光刻次數(shù)會(huì)少一些。
金屬掩模版產(chǎn)品圖片1
金屬掩膜版產(chǎn)品圖片2
