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原位薄膜厚度測量儀

原位薄膜厚度測量儀用于測量薄膜厚度和 n&k（光學(xué)常數(shù)）的實(shí)時(shí)光學(xué)測量儀。該系統(tǒng)可以在高環(huán)境光下工作，因?yàn)樗褂瞄T控?cái)?shù)據(jù)采集，使用高強(qiáng)度閃光氙燈在寬帶 ( UV-NIR) 波長范圍內(nèi)進(jìn)行精確測量。MProbe 50 系統(tǒng)是*可定制的，以支持不同的真空室幾何形狀。根據(jù)可用的光學(xué)端口，可以使用斜入射或垂直入射。光可以聚焦在樣品表面或準(zhǔn)直。反射探頭可以放置在沉積室光學(xué)端口的外部或內(nèi)部（使用光纖饋通）。MProbe 50 系統(tǒng)沒有活動(dòng)部件。典型測量時(shí)間~10ms?？梢钥焖倏煽康販y量任何半透明薄膜。

優(yōu)勢(shì)：

1.原位薄膜厚度和 n&k 測量

2.用于高環(huán)境光環(huán)境下測量的門控?cái)?shù)據(jù)采集

3.材料：500+ 擴(kuò)展材料數(shù)據(jù)庫

4.連續(xù)、快速和可靠的測量

5.靈活的配置——*定制以匹配沉積室的幾何形狀

選型列表：

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