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NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或...
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或...
NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達8“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-...
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)：臺式自動系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...
NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-...
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 T...
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機：*進的全自動濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套...
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