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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,汽車及零部件,電氣 |
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TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源
HiPIMS 應(yīng)用的選擇
TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可作為直流濺射電源的替代方案，無需改動即可用于現(xiàn)有磁控系統(tǒng)。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質(zhì)鍍膜，因此是高功率脈沖磁控濺射應(yīng)用的首要之選。
TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源
無瑕的鍍膜結(jié)果
高達 4 兆瓦的最佳峰值功率以較高的離子流量產(chǎn)生非常密集的等離子體。
可靈活使用
輕松適配現(xiàn)有陰極系統(tǒng)和工藝條件實現(xiàn)最佳設(shè)備集成。
HiPIMS 應(yīng)用的
作為*的脈沖式 PVD 濺射工藝，HiPIMS 可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質(zhì)鍍膜。
適用于眾多應(yīng)用
亦可用于直流電模式，無需額外的直流發(fā)生器。
高峰值功率產(chǎn)生高度離子化的等離子體并實現(xiàn)高離子流量。由此可取得非常連貫且致密的薄膜并避免微滴。若與極化基板配置相結(jié)合，則 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可以在刻蝕、溝填應(yīng)用中提供出色結(jié)果。
可調(diào)脈沖寬度與頻率、擴展性能參數(shù)和具有極少電弧能量的全數(shù)字化電弧管理實現(xiàn)無液滴濺射、低限度的薄膜缺陷并保證較高的涂層質(zhì)量和沉積速率。
憑借高能量與高達 2 kV 的電壓，可以制造出高質(zhì)量的鍍膜——無論是在小型實驗室里還是在大型工業(yè)設(shè)施中。可達 5 ms 的脈沖與最高 10 kHz 的頻率提高了沉積速率，因此有助于降低總體經(jīng)營成本。
憑借可調(diào)頻率的功率調(diào)節(jié)器確保沉積參數(shù)在高要求的反應(yīng)工藝中也能保持恒定。因此，工藝得以在幾小時甚至幾天內(nèi)保持穩(wěn)定，無需人為介入。
TruPlasma Highpulse 系列發(fā)生器是一個緊湊型單元。其無需外部直流電源，采用全水冷設(shè)計，因此得以在潔凈室內(nèi)工作。
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