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光學(xué)實驗平臺應(yīng)用領(lǐng)域：適合于現(xiàn)代光學(xué)、物理力學(xué)、激光電子、光通訊試驗及儀器搭載等領(lǐng)域應(yīng)用。
光學(xué)平臺使用時注意事項：
1、 請勿用酸性液體清洗本產(chǎn)品,以免破壞產(chǎn)品表面質(zhì)量。
2、 請勿將本產(chǎn)品放置在高溫、潮濕及高強(qiáng)度振源處。
3、 請勿用水沖洗本產(chǎn)品。
4、 本產(chǎn)品長時間處于一種狀態(tài)下,請用水平儀調(diào)整臺面水平。
5、 工作臺面上擱置的任何設(shè)備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對磨擦,以避免損傷工作臺面,降低使用精度。
6、 工作臺面安裝孔,是用于固定設(shè)備的M6螺孔,使用時避免用力過大,影響工作臺精度。
光學(xué)實驗平臺外形尺寸
1200×800×120mm（提供支撐桌）
1500×1000×140mm（提供支撐桌）
1800×1000×140mm（提供支撐桌）
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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