光學系統

儀器類型

全反射消色差光學系統（單光束，雙光束*）

單色器

肖像差C-T型，焦距350mm

色散元件

泡面衍射光柵，1800條/mm，刻劃面積40×40mm2，閃爍波長250nm

光譜寬帶（nm）

0.1、0.2、0.7、1.4nm四檔自動切換

波長范圍（nm）

190-900

波長準確度（nm）

±0.20

波長重復性（nm）

≤0.05

分辨能力

可分辨Mn三線（279.5nm 線峰谷≤30%）

光度性能

讀書方式

透過率、吸光度、濃度

光度范圍

0-125%，-0.1-3.00A

靜態(tài)基線漂移

（Cu）±0.003A/min

動態(tài)基線漂移

（Cu）±0.003A/min

背景校正

雙背景校正

氘燈背景：＞50倍以上校正能力（1Abs）,校正波長可延伸到500nm以上

自吸背景：＞100倍以上校正能力（1Abs），＞80倍以上校正能力（2Abs）

燈架系統

國內*8燈位垂直安裝，自動換燈，二維自動微調對光系統

檢測器

高靈敏度寬光譜范圍低噪聲光電倍增管

原子化系統

火焰

石墨爐

火焰、石墨爐

火焰分析

特征濃度

Cu≤0.02ug/ml/1%

檢出限

Cu≤0.005ug/ml

精密度

RSD≤0.5%

燃燒器

10cm單縫全鈦燃燒器，高度自動設定，水平位置免調

石墨爐位置水平、垂直、轉位全部免調

噴霧器

高效玻璃霧化器

霧化室

聚四氯乙烯霧化室，即使對腐蝕性的物質也有*的抗蝕性

燃氣控制

*德國進口質量流量計，自動控制氣體流量。

安全措施

燃氣泄漏、空氣欠壓、異常滅火、未水封自動報警和自動安全保護；霧化室自動泄壓，空氣常開

石墨爐分析

特征量

對鎘Cd的特征量≤0.4×10-12g  對銅Cu的特征量≤20×10-12g

檢出極限

對鎘Cd的檢出限≤0.5×10-12g

精密度

對鎘Cd、對銅Cu的精密度；手動進樣≤2%

石墨爐升溫范圍

室溫～3000℃

大功率升溫控制范圍

1500℃～3000℃

升溫速率

zui大升溫速率2000℃/S

原子化升溫方式

光控升溫，時控升溫，一般升溫

石墨管外保護氣體流量

1L/min

石墨管內保護氣體流量

可設停氣、開（0-50ml/min微流量或300-400ml/min固定流量）

安全措施

冷卻水流量、保護氣壓力、爐體溫度、石墨管安裝自動報警和安全措施

數據處理

測量方式

火焰法、石墨爐法，氫化物發(fā)生原子吸收法，火焰發(fā)生法

濃度計算方式

標準曲線法（6種線性、非線性擬合方法），標準加入法，內插法

重復測量次數

1-30次，計算和給出吸光度和濃度的平均值、標準偏差和相對標準偏差

報表打印

參數打印，數據結果打印，圖形打印

其它

計算機、通訊接口

外接，RS-232通訊

外形尺寸l×b×h mm

800×600×590

800×600×590

1300×660×600

質量（重量）

85

135

280

電源要求

（220±22V）,頻率（50±1Hz），詳見安裝條件

市場價

198000

210000

268000