9
Moorfield Nanotechnology是英國材料科學域高性能儀器研發(fā)公司，成立二十多年來注于高質量的薄膜生長與加工技術，擁有雄厚的技術實力，推出的多種高性能設備受到科研與工業(yè)域的廣泛好評。高精度薄膜制備與加工系統(tǒng) - MiniLab是英國Moorfield Nanotechnology公司經過多年技術積累與改進的旗艦型系列產品。MiniLab系列產品的定位是配置靈活、模塊化設計的PVD系統(tǒng)，可用于高質量的科學研究和中試生產。
高精度薄膜制備與加工系統(tǒng) - MiniLab自推出以來銷售已突破200套。這些設備已經進入了歐洲各大學和科研單位實驗室，諸如曼徹斯大學、劍橋大學、帝國理工學院、諾森比亞大學、巴斯大學、?？巳髮W、倫敦瑪麗女·王大學、哈德斯菲爾德大學、萊頓大學、亞森工業(yè)大學、西班牙光子科學研究所、英國國家物理實驗室等著名單位都是Moorfield Nanotechnology的用戶和長期合作者。諸多的用戶與合作者讓產品的性能和設計理念得到了高速發(fā)展，并邁入全球化的進程。
如今Quantum Design中國子公司與Moorfield Nanotechnology正式合作，作為中國的總代理和戰(zhàn)略合作伙伴，將為中國用戶提供高性能的設備與質的服務。除了MiniLab系列之外我們還提供多種高性能的臺式設備和定制服務。
設備型號
MiniLab 026 MiniLab 026系統(tǒng)是小型落地式真空鍍膜設備，具有容易操作的“翻蓋"式真空腔。適用于金屬、電介質和有機物的蒸發(fā)和濺射沉積鍍膜。 MiniLab 026采用體化設計方案，真空腔的部分向下插入支撐框架內。腔室可以采用翻蓋式或鐘罩式。該系統(tǒng)可配備多種沉積技術，熱蒸發(fā)和低溫蒸發(fā)源(生長金屬和有機物)，磁控濺射源(金屬和無機)。沉積源通常安裝在腔室底部，樣品他安裝在頂部，可容納直徑達6英寸的基片。可提供基片加熱、旋轉和Z-shift。MiniLab 026還與手套箱兼容，是MiniLab系列中唯·可以輕松與用戶現(xiàn)有手套箱集成的系統(tǒng)。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫熱蒸發(fā)(有機物)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
|
MiniLab 060 MiniLab 060系統(tǒng)是MiniLab系列中最·受歡迎的通用平臺，具有前開門式的箱式腔室，適用于多源磁控濺射，也適用于熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)。 MiniLab 060采用體化設計方案，真空腔體安裝在控制系統(tǒng)電子機柜上。系統(tǒng)可以配備各種沉積技術，包括熱蒸發(fā)和低溫蒸發(fā)源(生長金屬和有機物)，磁控濺射源(金屬和無機)，電子束源(除有機物外的大多數(shù)材料類別)。沉積源通常安裝在腔室底部，但濺射源也可以采用頂部安裝的方式。樣品臺可容納的基片尺寸高達11英寸，可提供基片加熱、旋轉、偏壓和Z-shift。可配置行星式樣品臺、源擋板和基片擋板。系統(tǒng)配置可從手動操作的熱蒸發(fā)系統(tǒng)到具有全自動過程控制的多種生長方案。必要時MiniLab 060系統(tǒng)可提供快速進樣室。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫熱蒸發(fā)(有機物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
|
MiniLab 080 MiniLab 080采用高腔體設計，非常適合熱蒸發(fā)、低溫熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，更長的工作距離以獲得更好的薄膜均勻性。 MiniLab 080真空腔體安裝于控制系統(tǒng)電子機柜上。該系統(tǒng)非常適用于需要較長的工作距離以獲得更好均勻性的蒸發(fā)技術。蒸發(fā)入射角接近90°，對于光刻器件獲得·好的lift off效果。除了熱蒸發(fā)、有機物熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)外，該系統(tǒng)還可以用于磁控濺射（用做復合生長系統(tǒng)）。 樣品臺通常在腔室的頂部，可以容納基片尺寸高達11英寸直徑?？商峁┗寮訜?、旋轉、偏壓和Z-shift?？膳渲眯行鞘綐悠放_、源擋板和基片擋板。系統(tǒng)配置可從手動操作的熱蒸發(fā)系統(tǒng)到具有全自動過程控制的多種生長方案。必要時MiniLab 080系統(tǒng)可提供快速進樣室。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫熱蒸發(fā)(有機物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
|
MiniLab 090 MiniLab 090系統(tǒng)是為兼容手套箱開發(fā)的，適用于對大氣敏感的薄膜生長。高腔室設計方案是高性能蒸發(fā)的理想選擇，同時也可以采用磁控濺射方式。 MiniLab 090系統(tǒng)是用于金屬、電介質和有機物沉積的落地PVD系統(tǒng)。系統(tǒng)包含個箱式不銹鋼腔體，前、后雙開門設計可與手套箱集成，允許通過手套箱中前門或者外部的后門對系統(tǒng)進行操作。真空腔體具有大的高寬比，非常適合通過蒸發(fā)技術進行長工作距離的高均勻性涂層，但系統(tǒng)也可以配備磁控濺射。真空度于5×10-7mbar。針對客戶的預算和需求可提供非常靈活的配置。系統(tǒng)配置可從手動操作的熱蒸發(fā)系統(tǒng)到具有全自動過程控制的多種生長方案。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫熱蒸發(fā)(有機物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
|
MiniLab 125 MiniLab 125系統(tǒng)將模塊化設計概念帶進了中試規(guī)模。大的腔室允許增加組件的尺寸，進而滿足大面積涂層需求，結合快速進樣室設計方案，可提高樣品的吞吐量。同時，系統(tǒng)是*可定制化的，以匹配定的鍍膜需求。 MiniLab 125系統(tǒng)是落地式真空鍍膜設備可用于金屬、電介質和有機薄膜沉積。系統(tǒng)包含個帶有前門的箱式不銹鋼腔體，用于取放樣品。大的腔室體積可以用于中試規(guī)模的涂層或采用較為復雜的配置滿足靈活多變的實驗需求。系統(tǒng)可安裝所有主要的沉積組件或定制的組件。系統(tǒng)的本底真空可達5×10-7mbar?？筛鶕?jù)用戶的預算和具體應用采用靈活的配置方案。 薄膜生長方式可選：熱蒸發(fā)（金屬）、低溫熱蒸發(fā)(有機物)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
|
