升降式光化學反應儀JP-GHX-XF2
參考價 | ¥ 25400 |
訂貨量 | ≥1套 |
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 無錫久平儀器有限公司
- 品牌 久平儀器
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/4/30 10:41:13
- 訪問次數(shù) 83
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應用領域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥,綜合 |
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光化學反應儀主要特征:
●光源控制器。
●雙層石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損。
●調節(jié)升降臺高度調節(jié)光照強度。
●反光罩可使樣品充分接受光照。
●冷卻水循環(huán)裝置制冷量:800W。
●冷卻水循環(huán)裝置設有底部排液閥。
●箱體內(nèi)部為黑色,以降低光反射。 箱體后部有2個冷卻水進出口。
光化學反應儀技術參數(shù):
★久平光源控制器,可供汞燈(1000W或500W、400W、300W、250W)、氙燈(1000W或500W、300W)、金鹵燈(500W)等多種光源使用。
★雙層石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損
★調節(jié)升降臺高度調節(jié)光照強度。
★ 反光罩可使樣品充分接受光照。
光化學反應儀產(chǎn)品配置:
久平專用光源控制器JP-GHX-XF2:1臺,石英冷阱:1只,燈:1支(汞燈、氙燈、金鹵燈 可選)
反光罩一個,升降臺一個,支架一個,冷卻水循環(huán)裝置:1臺,暗箱:1臺,防紫外線眼鏡:1個