隨著我們科技的不斷進(jìn)步，生活質(zhì)量的不斷提高，電子產(chǎn)品在人們的生活中無處不在，這些電子產(chǎn)品的核心元件就是芯片。然而，這些芯片在生產(chǎn)過程中對(duì)于用水水質(zhì)的要求高，所用超純水的質(zhì)量直接影響芯片效果，但超純水重復(fù)利用率不高，所以對(duì)高質(zhì)量超純水需求巨大。

目前，市面上采用的超純水設(shè)備均是根據(jù)芯片用水要求，采用全自動(dòng)電去離子超純水處理技術(shù)，前置預(yù)處理配套使用加反滲透+EDI裝置+拋光段工藝處理，有效去除水中各種鹽份及雜質(zhì)，進(jìn)一步提升水質(zhì)，出水水質(zhì)符合芯片生產(chǎn)用水要求。

　　該設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、EDI電除鹽系統(tǒng)、拋光段工藝等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。水箱設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠(yuǎn)程輸送至中控室上位機(jī)，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)就地和集中控制兩種操作方式，該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，選用不會(huì)因?yàn)闃渲偕Ｖ惯\(yùn)行的EDI裝置，設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對(duì)靠緊，其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，超純水設(shè)備在出廠前均需進(jìn)行裝置調(diào)試，所以設(shè)備故障幾率較小，日常保養(yǎng)、維修等操作都非常簡(jiǎn)單。

綜上所述，我們還發(fā)現(xiàn)超純水設(shè)備在制備高品質(zhì)超純水時(shí)，產(chǎn)出廢水少，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。