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等離子刻蝕冷卻chiller廠家介紹常見刻蝕工藝類型有哪些?

來(lái)源:無(wú)錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司   2025年03月04日 15:48  

  刻蝕工藝是半導(dǎo)體制造中用于在硅片上形成微細(xì)結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟,常見的刻蝕工藝類型包括哪些呢?接下來(lái),等離子刻蝕冷卻chiller廠家冠亞恒溫為您介紹:

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  濕法刻蝕(Wet Etching):利用化學(xué)溶液去除硅片上的材料。這種方法成本較低,適合于較不敏感的工藝。

  干法刻蝕(Dry Etching):通過(guò)氣體等離子體來(lái)實(shí)現(xiàn)材料的去除。干法刻蝕可以提供更好的各向異性和選擇性,適用于更精細(xì)的工藝。

  等離子體刻蝕(Plasma Etching):一種干法刻蝕技術(shù),使用等離子體來(lái)實(shí)現(xiàn)高各向異性的刻蝕,適合于深寬比高的微結(jié)構(gòu)。

  反應(yīng)離子刻蝕(Reactive Ion Etching, RIE):一種干法刻蝕技術(shù),結(jié)合了物理轟擊和化學(xué)反應(yīng),以實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕。

  深槽隔離刻蝕(Deep Trench Isolation Etching):用于形成深而窄的隔離槽,以隔離不同的器件區(qū)域,防止電氣干擾。

  光刻膠灰化刻蝕(Photoresist Ashing):在光刻過(guò)程中,用于去除未曝光的光刻膠層,通常使用氧等離子體。

  化學(xué)機(jī)械拋光后刻蝕(Post-CMP Etching):在化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)后用于去除殘留物或調(diào)整表面輪廓。

  原子層刻蝕(Atomic Layer Etching, ALE):一種準(zhǔn)確控制刻蝕深度的技術(shù),通過(guò)交替引入不同的化學(xué)氣體來(lái)實(shí)現(xiàn)原子級(jí)別的去除。

  激光直寫刻蝕(Laser Direct Write Etching):使用激光束直接在材料上刻寫圖案,適用于快速原型制作和小批量生產(chǎn)。

  電子束刻蝕(Electron Beam Etching):使用電子束在材料上直接刻寫圖案,適用于高分辨率的微細(xì)加工。

等離子刻蝕冷卻chiller(高精度冷熱循環(huán)器),適用于集成電路、半導(dǎo)體顯示等行業(yè),溫控設(shè)備可在工藝制程中控制反應(yīng)腔室溫度,是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中對(duì)設(shè)備或工藝進(jìn)行冷卻的裝置,其工作原理是利用制冷循環(huán)和熱交換原理,通過(guò)控制循環(huán)液的溫度、流量和壓力,帶走半導(dǎo)體工藝設(shè)備產(chǎn)生的熱量,從而實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的溫度控制,確保半導(dǎo)體制造過(guò)程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量。


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