半導(dǎo)體制造工藝與光刻膠

來源：深圳市京都玉崎電子有限公司 2024年09月14日 10:25

在半導(dǎo)體制造中，光刻膠用于光刻工藝中以在基板上形成電路圖案。制造過程主要包括以下步驟。

①清洗

涂敷光刻膠前，應(yīng)che底清洗基材，保持表面清潔。

②光刻膠的涂敷

將光刻膠均勻地涂敷在基材上并干燥。此階段光刻膠的厚度和均勻性對(duì)后續(xù)圖形形成的精度有很大的影響。

③曝光用紫外線照射光刻膠，在光刻膠上形成圖案。

發(fā)射光的波長(zhǎng)和強(qiáng)度直接影響圖案的分辨率。

④顯影用顯影劑

對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行處理，除去不需要的部分。這使得設(shè)計(jì)的圖案出現(xiàn)在板上。

⑤蝕刻

顯影后，以光刻膠圖案為掩模，通過蝕刻去除基板上不需要的部分。

⑥去除光刻膠

最后，蝕刻完成后，去除光刻膠，進(jìn)入下一步。

相關(guān)產(chǎn)品

凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí)，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。

欧美……一区二区三区,欧美日韩亚洲另类视频,亚洲国产欧美日韩中字,日本一区二区三区dvd视频在线