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iCAP Qc ICPMS 測定高純氧化鉬中 Cd 等痕量雜質

閱讀:531      發(fā)布時間:2019-04-12
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鉬具有耐高溫,低膨脹系數(shù),在合金中添加鉬能起到耐熱和耐腐蝕作用,并提高合金的強度,用于制造航空和航天的各種高溫部件。尤其對于含高鉬的鎳基合金,除了主合金成份外,對于一些雜質元素的控制將嚴重影響合金的性能。氧化鉬和鉬酸鹽是化學和石油工業(yè)中的優(yōu)良催化劑,為保證催化劑的性能也需要對重金屬加以嚴格的控制。由于鎘的所有同位素都會受到氧化鉬的一價多原子離子干擾,本方法通過 CCT 氧氣反應將氧化鉬轉化為多氧化鉬從而消除了對鎘的干擾。

 

方法提要本實驗將高純氧化鉬溶解于稀氨水中,采用賽默飛 iCAP Qc ICPMS,分別采用高流量 He 氣碰撞和 CCT 氧氣反應模式測定,通過 Qtegra 自動調諧,并優(yōu)化碰撞反應氣體流量消除 Mo 基體對鎘測定的干擾。

 

CAP Q ICPMS 具備一鍵式儀器設置功能,設置后可自動運行個性化 TUNE 程序,并完成 Performance Report。一鍵儀器設置和直觀分析工作流程,為操作人員簡化了實驗步驟并避免出錯,同時自動和記錄監(jiān)控儀器狀態(tài),確保了操作的一致性和結果的重現(xiàn)性。

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