HydroFORM掃查器

相控陣腐蝕成像探頭優(yōu)勢(shì)特性

•局部水浸技術(shù) •耦合效果得到優(yōu)化，可以檢測(cè)粗糙的表面 •大面積覆蓋 •避免了楔塊反射 •方便的表面回波同步，用于外壁和內(nèi)壁腐蝕的監(jiān)測(cè)

典型應(yīng)用

I4探頭

相控陣腐蝕成像探頭應(yīng)用

•可以對(duì)中等大小及大面積區(qū)域進(jìn)行手動(dòng)或自動(dòng)腐蝕檢測(cè)，完成對(duì)剩余壁厚或內(nèi)部腐蝕材料的測(cè)量

雙晶線性陣列（DLA）腐蝕探頭

優(yōu)勢(shì)特性

•一發(fā)一收技術(shù) •極大地減少了表面回波，從而優(yōu)化了表面分辨率 •可拆裝式弧面延遲塊 •內(nèi)置灌溉 •環(huán)部件可調(diào)節(jié)，增強(qiáng)了穩(wěn)定性和耐磨性 •與雙晶UT技術(shù)相比，DLA具有更高的探出率、更好的成像效果、更大的覆蓋范圍，以及增強(qiáng)的數(shù)據(jù)點(diǎn)密度

典型應(yīng)用

REX1探頭 •可以對(duì)較小及中等大小的區(qū)域進(jìn)行手動(dòng)或自動(dòng)檢測(cè)，完成對(duì)剩余壁厚或內(nèi)部腐蝕材料的測(cè)量

ULT1探頭 •可以對(duì)較小及中等大小的區(qū)域進(jìn)行手動(dòng)檢測(cè)，完成對(duì)表面溫度高達(dá)150 °C工件的剩余壁厚或內(nèi)部腐蝕區(qū)域壁厚的測(cè)量。

奧氏體、鎳及其它粗晶合金