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玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具
內(nèi)聯(lián)雙頭微點(diǎn) XRF
無損晶圓檢測(cè)和計(jì)量
雙 X 射線源(多毛細(xì)管/單色),
適用于最大 300 mm 的晶圓
玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具
玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具
ONYX 3200 概述
ONYX 3200 是市場(chǎng)上先進(jìn)的混合測(cè)量解決方案。這款第二代雙頭工具結(jié)合了先進(jìn)的 μXRF 和光學(xué)技術(shù),可在在線半導(dǎo)體制造中提供高精度的缺陷檢測(cè)和最高的吞吐量。
ONYX 系列系統(tǒng)旨在在從 FEOL 到 WLP 的整個(gè)制造過程中提供全面的計(jì)量方法。這包括適合先進(jìn)封裝和單凸點(diǎn)應(yīng)用的配置,并允許監(jiān)控 Ag/Sn 比率。
優(yōu)化源性能
用于過程監(jiān)控的單μbump測(cè)量
高產(chǎn)量和增加的吞吐量
準(zhǔn)確分析金屬厚度和成分
對(duì)層厚度和成分的最大敏感性
二維顯微鏡 | 二維顯微鏡放大倍數(shù) | 3D掃描儀 |
ONYX 3200 特點(diǎn)
ONYX 3200 規(guī)格
測(cè)量類型 | 雙頭微點(diǎn) EDXRF 和光學(xué)檢測(cè) (2D-3D) | |
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晶圓尺寸 | 最大300mm | |
晶圓類型 | 毯子和圖案晶圓 | |
導(dǎo)航 | 精密平臺(tái)輔以圖像識(shí)別算法 ,可快速亞微米導(dǎo)航至單個(gè)特征中心 | |
微型 XRF 光束方向 | 正入射微點(diǎn) (μXRF) | |
光學(xué)系統(tǒng) | “多色"(X 射線光學(xué))和顏色“單色"(X 射線光學(xué)) | |
微型 XRF 束斑尺寸 | 可調(diào)范圍為 10 至 50 µm | |
探測(cè)器類型 | 硅漂移探測(cè)器 (SDD):3 種配置 1. 常規(guī) > Al 2. 輕元素:C、N、O、F、S 3. 重元素:> Ge(針對(duì) Ag、Sn 進(jìn)行了優(yōu)化) | |
DPP|數(shù)字脈沖處理器 | 超過 100 萬光子/秒的高效率 |