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玉崎科學(xué)儀器（深圳）有限公司
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XHEMIS TX-3000V半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀
| 參考價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- XHEMIS TX-3000V 產(chǎn)品型號
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產(chǎn)品簡介
| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
|---|
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀
內(nèi)置 VPD 的 TXRF 光譜儀
超快速金屬污染測繪
VPD 的最高靈敏度
兼容最大 300mm 晶圓
產(chǎn)品介紹
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀
XHEMIS TX-3000V 概述
典型元素的檢測限 (LLD)
| 檢測限LLD（E10原子/cm2） | 鋁 | 鐵 | 鎳 | 銅 |
| 發(fā)射光譜 | 14 | 0.06 | 0.06 | 0.09 |
| VPD-TXRF | 0.1 | 0.001 | 0.001 | 0.002 |
測量時(shí)間：1000秒
XHEMIS TX-3000V規(guī)格
| 方法 | 帶氣相分解 (VPD) 的全內(nèi)反射 X 射線熒光分析 (TXRF) | |
|---|---|---|
| 目的 | 用于測量超痕量元素表面污染的 1E7 原子/cm2 檢測限繪圖速度 提高約 3 倍 | |
| 技術(shù) | 集成自動(dòng) VPD 準(zhǔn)備、三光束激發(fā)和自動(dòng)光學(xué)交換 | |
| 主要部件 | 3 探測器配置 高功率 W 對陰極 X 射線源（9 kW 旋轉(zhuǎn)對陰極） 針對輕元素、過渡元素和重元素優(yōu)化的 3 種激發(fā)能量 XYθ 樣品臺 雙 FOUP 負(fù)載端口 | |
| 特征 | 全晶圓測繪 (SWEEPING-TXRF) 零邊緣排除 (ZEE-TXRF) 用于硅晶圓的集成自動(dòng) VPD 預(yù)處理 (VPD-TXRF) 雙 FOUP 裝載端口，實(shí)現(xiàn)最高靈敏度 | |
| 選項(xiàng) | 背面分析 (BAC-TXRF) GEM300 軟件、E84/OHT 支持 氣相處理以提高靈敏度，同時(shí)保留空間信息 (VPT-TXRF) 用于親水晶圓表面（例如 SiC）的 VPD | |
| 機(jī)身尺寸 | 1280（寬）x 3750（深）x 2040（高） （不含監(jiān)視器和信號塔） | |
| 測量結(jié)果 | 定量結(jié)果、光譜圖、彩色等高線圖、映射表 | |
