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產品簡介：
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐 OTF-1200X-II 溫度可達到 1200℃， 并可通過調節(jié)兩個獨立的 控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用 CVD 方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
| 產品型號 | 1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐 OTF-1200X-II | ||
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：不需要 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3 、氣： 如作為 CVD 系統使用，需自備氣源 （標準帶有寶塔接頭，可自費改制成為雙卡套接頭） 4、工作臺： 尺寸 1600mm×600mm×700mm ，承重 200kg 以上 5、通風裝置：需要 | ||
| 主要特點 | 1、雙層殼體，配有循環(huán)風冷系統，殼體溫度<60℃。 2 、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，同時延長使用壽命。 3、設有超溫及斷偶報警功能。 4 、采用 PID 控制器， 可以設置 30 段升降溫程序。 5 、已通過 CE 認證。 | ||
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| 技術參數 | 1 、電源： AC 220V 50Hz/60Hz 4KW 2、石英管： 外徑 Ø50mm ，內徑 Ø44mm ，長 1000mm 外徑 Ø60mm ，內徑 Ø54mm ，長 1000mm 外徑 Ø80mm ，內徑 Ø74mm ，長 1000mm 外徑 Ø100mm ，內徑 Ø94mm ，長 1000mm 3、加熱元件： 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲，表面涂有氧化鋯 4、溫區(qū)： 2 個 5、加熱區(qū)域： 400mm（200mm+200mm） 6 、工作溫度： 1200℃ ，連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率： 20℃/min 8、控溫精度：± 1℃ 9、真空度： 10-2torr （機械泵）， 10-5torr （分子泵） | ||
| 產品規(guī)格 | 尺寸： 1000mm×380mm×520mm | ||
| 標準配件 | 1 | 石英管 | 1 根 |
| 2 | 不銹鋼真空法蘭 | 1 套 | |
| 可選配件 | 1 、疊型法蘭 2、鉸鏈式法蘭 3、數字真空計 4 、PC 控制軟件 | ||
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