您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
15510102388
可以使用 GISAXS 和 X 射線反射 （XRR） 測量來測量 CD，以測量薄膜厚度、密度和粗糙度。
兼容最大 300 毫米的晶圓
| 技術 | 傾斜小角 X 射線散射測量 （GISAXS）， X 射線 反射測量 （XRR） | |
|---|---|---|
| 用 | 淺層重復結構的臨界尺寸測量 | |
| X 射線源 | 包合管，Cu Ka （8.04 KeV） | |
| X 射線光學元件 | 多層反射鏡光學元件 | |
| X 射線探測器 | 二維探測器 | |
| 主要組件 | 圖案化晶圓測量周期性 精細3D形狀線 和空間，點或孔結構 ，淺孔/列，抗蝕劑，掩模圖案，存儲設備單元區(qū)域，F(xiàn)inFETs/GAAs | |
| 特征 | 圖形識別和全晶圓映射 | |
| 選擇 | GEM300 軟件，支持 E84/OHT | |
| 本體尺寸 | 1865（寬）× 3700（深）× 2115（高）毫米，2965 公斤（包括裝載口） | |
| 測量目標 | GISAXS：間距、CD、高度、SWA（側(cè)壁角度）、RT（頂部圓角）、RB（底部圓角）、線寬分布、間距分布、高度分布 XRR：薄膜厚度、密度和粗糙度 | |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責，化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買產(chǎn)品前務必確認供應商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
