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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第21年

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當(dāng)前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>制冷加熱控溫系統(tǒng)>>制冷加熱循環(huán)機(jī)>> SUNDIZ4-5W原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

參   考   價(jià): 155987

訂  貨  量: ≥1 臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)SUNDIZ4-5W

品       牌冠亞制冷

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地無錫市

更新時(shí)間:2025-01-17 12:58:29瀏覽次數(shù):306次

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產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-20萬
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥/生物制藥,綜合
【無錫冠亞】原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置 ,應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置


無錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于:

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







型號(hào)

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認(rèn)PT100)

溫度反饋

設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應(yīng)物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機(jī)

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī)

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護(hù)

具有自我診斷功能;冷凍機(jī)過載保護(hù);高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙?,低溫自?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風(fēng))cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風(fēng)) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風(fēng)冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置

  Chiller,即冷卻裝置或冷水機(jī),是一種通過制冷劑循環(huán)來降低環(huán)境溫度的設(shè)備,在工業(yè)生產(chǎn)中,Chiller因其多種特點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,包括電子、制藥、化工、醫(yī)藥以及半導(dǎo)體等。

  濃縮是工業(yè)生產(chǎn)中的環(huán)節(jié)之一,它通過將溶液中的溶劑部分去除,從而提高溶液中溶質(zhì)的濃度。在濃縮過程中,離不開溫度的控制。如果溫度過高,可能會(huì)導(dǎo)致溶質(zhì)變性;而如果溫度過低,則可能降低濃縮效率。因此,濃縮過程需要控制溫度的參與。

  Chiller正是配套溫度控制。通過制冷劑的循環(huán)流動(dòng),將熱量從需要冷卻的介質(zhì)中帶走,并排放到環(huán)境中,從而實(shí)現(xiàn)溫度的控制。在濃縮過程中,Chiller可以將溶液的溫度控制在一定范圍內(nèi),從而確保濃縮過程的順利進(jìn)行。

  具體來說,Chiller在濃縮中的應(yīng)用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:

  1、Chiller可以通過調(diào)節(jié)制冷劑的流量和壓力,控制溶液的溫度。這種溫度控制有助于防止溶質(zhì)在濃縮過程中發(fā)生變性,從而確保產(chǎn)品的質(zhì)量。

  2、在濃縮過程中,適當(dāng)?shù)臏囟瓤梢约铀偃軇┑恼舭l(fā),從而提升濃縮效率。Chiller可以根據(jù)實(shí)際需要,將溶液的溫度調(diào)節(jié)到適當(dāng)狀態(tài),從而加速溶劑的蒸發(fā),縮短濃縮時(shí)間。

  3、Chiller可以根據(jù)不同的濃縮需求和工藝條件進(jìn)行定制和優(yōu)化,適用于各種規(guī)模的濃縮系統(tǒng)。這使得Chiller在濃縮領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。

  除了以上幾點(diǎn)外,Chiller在濃縮過程中還可以與其他設(shè)備配合使用,如蒸發(fā)器、冷凝器等,共同構(gòu)成一個(gè)完整的濃縮系統(tǒng)。這種系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)溶液溫度、壓力、流量等多個(gè)參數(shù)的控制,從而提升濃縮過程的自動(dòng)化程度。

Chiller在濃縮過程中可以控制溶液的溫度,提升濃縮效率,還可以實(shí)現(xiàn)廣泛的應(yīng)用。隨著科技和工業(yè)生產(chǎn)的不斷發(fā)展,Chiller在濃縮領(lǐng)域的應(yīng)用將會(huì)越來越廣泛。



原料藥工藝流程溫控系統(tǒng) 加熱冷卻循環(huán)裝置



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