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　　電極制備鍍膜儀進行鍍膜的原理是異常輝光放電中稀有氣體產(chǎn)生的等離子體在電場作用下轟擊陰極靶表面，在靶表面濺射分子、原子、離子和電子。濺射粒子具有一定的動能，以一定的方向射向基體表面，在基體表面形成涂層。濺射過程中產(chǎn)生的快電子在正交電磁場中作近似擺線運動，增加了電子行程和氣體電離速率。同時，高能粒子在與氣體碰撞后失去能量，基底溫度較低。涂層可在非耐溫材料上完成。