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| 3C閥門類別 | 工業(yè) | 動作方式 | 100 |
|---|---|---|---|
| 工作溫度 | 100℃ | 公稱通徑 | 100mm |
| 流動方向 | 換向 | 使用壓力 | 100mpa |
| 位置數(shù) | 100 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產業(yè),地礦,道路/軌道/船舶 |
| 有效截面積 | 100mm2 | 最高動作頻率 | 1000 |
產品簡介
詳細介紹
TOKIMEC東京計器閥DG4V-3-6C-M-P2-H-7-54在一氣相沉積制程中，沉積層被沉積于半導體晶圓(或基材)之上，通常包括加熱該基材，并將該基材夾持，以使該基材相距于沉積氣體(制程氣體)的供應源維持一短的距離，沉積氣體(制程氣體)朝該基材流動。該沉積氣體氣流產生反應，并于該被加熱的基材上形成一沉積層。
在腔室和真空泵之間的真空管路上的某些點，真空截止閥或節(jié)流閥通常被提供，在關閉時為處理室提供限制。揮發(fā)性污染物在反應腔室中的高溫下維持在汽態(tài)，會不被期望的凝結在冷卻的真空管路內壁之上，與反應腔室的反應區(qū)之間存在一些距離，但仍在由真空閥所定義的制程腔室的容納限制之內。在沒有氣流的情況下，這些污染物會回到腔室的反應區(qū)域之中，并造成不被期望的污染。為了試圖避免這個問題，制程腔室的容納限度內的內表面定期通過蝕刻(和/或等離子體清潔)等方式清潔，通過一清潔氣體以移除由沉積氣體所沉積的介電材料。
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-0A-M-P2-T
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-0B-M-P2-V-7-54
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-0C-M-P2-V-7-52
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-23A-M-P2-T-7-54
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2AL-M-P7-T-7-52
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2AL-M-U7-H-7-54
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2A-M-P2-D-7-50
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2A-M-P2-D-7-54
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2C-M-P2-V-7-52
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2C-M-P2-V-7-54
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2N-M-P2-V-7-54
TOKIMEC電磁閥 DG4V-3-2N-M-P7-H-7-55
TOKIMEC東京計器閥DG4V-3-6C-M-P2-H-7-54然而，節(jié)流閥受限于其結構上的設計，污染物會沉積于節(jié)流閥的內部零件之上，并影響節(jié)流閥的氣流控制效果。由于節(jié)流閥一般是以步進馬達進行控制，當污染物沉積于節(jié)流閥的內部零件之上時，步進馬達會反復調整節(jié)流閥開度，因而影響反應室的壓力，并減少了節(jié)流閥的壽命。