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Agilent 8800直接測(cè)定高純稀土氧化物中的痕量稀土元素
閱讀：426 發(fā)布時(shí)間：2018-12-22| 提 供 商 | 上海斯邁歐分析儀器有限公司 | 資料大小 | 694.1KB |
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稀土元素 (REE) 廣泛應(yīng)用于高科技領(lǐng)域。鐠 (Pr)、釹 (Nd)、釤 (Sm) 和鏑 (Dy) 用于大功率永磁體。鐿 (Yb)、鉺 (Er) 和鈥 (Ho) 用于激光器。鑭 (La)、釓 (Gd)、 鋱 (Tb)、銪 (Eu) 和 Yb 則是發(fā)光及熒光材料的成分，常用于熒光燈、雷達(dá)屏幕 以及等離子體顯示器。稀土還用于汽車尾氣吸收催化劑和高科技玻璃。由此顯 而易見(jiàn)，稀土在高科技行業(yè)所用的許多材料中都起著非常重要的作用。然而， 高純稀土材料中存在的其他痕量稀土雜質(zhì)往往會(huì)對(duì)終產(chǎn)品的功能產(chǎn)生影響，因 此，稀土氧化物原材料中的雜質(zhì)必須加以嚴(yán)格控制。
在各種用于測(cè)定痕量稀土的原子光譜技術(shù)中，ICP-MS 的應(yīng) 用為廣泛，因?yàn)槠湎⊥磷V圖較為簡(jiǎn)單 — 尤其是與發(fā)射光 譜技術(shù)相比時(shí)。不過(guò)，在低質(zhì)量數(shù)稀土基質(zhì)中測(cè)定痕量較 高質(zhì)量數(shù)的稀土雜質(zhì)仍然面臨著非常大的挑戰(zhàn)性。這是因 為在所有元素中，稀土氧化物的鍵能在金屬氧化物 (M-O) 中是高的，在 ICP-MS 質(zhì)譜中，低質(zhì)量數(shù)稀土的氧化物 離子會(huì)干擾中等質(zhì)量及高質(zhì)量數(shù)的稀土雜質(zhì)的測(cè)定。以高 純 Sm2 O3 中的痕量稀土雜質(zhì)分析為例，147 Sm16 O+ 和 Dy 的同位素 ( 163 Dy+ ) 重疊，而 149 Sm16 O+ 則和 Ho 的同 位素 ( 165 Ho+ ) 重疊。痕量稀土分析物與稀土基質(zhì)的分離可以 通過(guò)利用螯合樹(shù)脂以在線或離線方式去除基質(zhì)來(lái)實(shí)現(xiàn)，但 是這種技術(shù)非常費(fèi)時(shí)而且需要根據(jù)被分離的基質(zhì)元素定制分 析方法。因此亟需一種能對(duì)多種高純稀土基質(zhì)中的痕量稀 土雜質(zhì)進(jìn)行直接分析的方法。