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實(shí)驗(yàn)設(shè)備: 實(shí)驗(yàn)用混料存儲清洗設(shè)備區(qū)域熔融純化設(shè)備 CVD系統(tǒng) 真空系統(tǒng) 氣體流量控制系統(tǒng) 箱式爐系列管式爐系列二維材料制備設(shè)備系列石墨烯制備設(shè)備系列石英管真空封管系統(tǒng)

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晶體材料

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氧化鋅 CPI的理念是以客戶為根本（customer），以人才為基礎(chǔ)（personnel），以創(chuàng)新求發(fā)展（innovation）。我們將秉承這一理念，為每一個客戶提供全套方案！

簡介：氧化鋅（ZnO）晶體基片廣泛應(yīng)用于GaN（藍(lán)光LED）外延基片，寬波段連接器等領(lǐng)域。

性能及參數(shù)
生長方法	水熱法
晶體結(jié)構(gòu)	六方
晶胞/晶格常數(shù)	a=3.252 Å c=5.313 Å
顏色及外觀	如圖
密度	5.7 g/cm³
熔點(diǎn)	1975 ℃
莫氏硬度	4.5mohs
熱膨脹系數(shù)	6.5×10^-6/℃//a 3.7×10^-6/℃//c
光學(xué)透過	0.4～0.6um＞50% at 2mm
熱導(dǎo)率	30 W/m.k @ 300K
熱容	0.125cal/g.m
折射率	1.922(o);1.936(e)
晶向	<0001>、<11-20>、<10-10>
晶面定向精度	±0.5°
邊緣定向精度	±1°
斜切晶片	可按照客戶需求，定制特殊方向
尺寸（可按照客戶需求，定制特殊尺寸）	10×10×0.5mm、10×5×0.5mm、5×5×0.5mm、15×15×0.5mm等
尺寸（可按照客戶需求，定制特殊尺寸）	/
拋光	單面拋光、雙面拋光等
表面粗糙度	＜5 Å
包裝	1000級超級凈室100級超凈袋或單片晶盒封裝

合肥康帕因設(shè)備技術(shù)有限公司是應(yīng)材料界老客戶呼吁而成立的專業(yè)致力于材料制備、真空鍍膜、真空檢測、等離子清洗、鍍膜等設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)型企業(yè)。公司擁有過硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)，可在材料研究、真空檢漏、真空鍍膜、等離子清洗等領(lǐng)域?yàn)槟艖n解難。
CPI 技術(shù)力量來源于材料類工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備要求，以及與國外同行業(yè)間的技術(shù)合作，產(chǎn)品設(shè)計*，注重細(xì)節(jié)，質(zhì)量可靠，售后無憂。CPI設(shè)備廣泛應(yīng)用于新能源材料，金屬材料，磁性材料，半導(dǎo)體材料，陶瓷材料，電化學(xué)，薄膜材料，CVD,PECVD ,石墨烯，碳納米管，碳納米線，光學(xué)材料，齒科等研究領(lǐng)域。
CPI將工業(yè)生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)要求應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)設(shè)備，設(shè)備性能更加穩(wěn)定可靠，工藝重復(fù)性強(qiáng)。

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