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篤摯儀器（上海）有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美能達(dá)色差計(jì),尼克斯測(cè)厚儀,三維掃描儀,byk光澤度儀,api激光干涉儀,涂鍍層測(cè)厚儀,防夾力測(cè)試儀 |
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主營(yíng)產(chǎn)品： 美能達(dá)色差計(jì),尼克斯測(cè)厚儀,三維掃描儀,byk光澤度儀,api激光干涉儀,涂鍍層測(cè)厚儀,防夾力測(cè)試儀 |
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更新時(shí)間：2024-08-31 19:25:01瀏覽次數(shù)：3592
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庫侖鍍層測(cè)厚儀可以用于測(cè)量幾乎所有基體上的電鍍層厚度?；w包括鋼鐵、有色金屬以及絕緣材料。例如鐵上鑷、鐵上鋅、銅上銀、環(huán)氧樹脂上的銅等。測(cè)量時(shí)只需去除幾乎看不到的一小塊面積的鍍層金屬，而基體不受影響。庫侖法確保測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確、可靠，儀器使用簡(jiǎn)便。測(cè)量操作由儀器的指令自主完成，操作者不需要專業(yè)知識(shí)。庫侖法又是**能夠測(cè)量復(fù)合鍍層、多層鍍層的方法。例如測(cè)量在鐵上依次鍍上的銅、鑷、鉻等。
電鍍鎳層用作電解保護(hù)和提高機(jī)器表面屬性，如硬度等。 特別是汽車工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿足很高的要求。單一鎳層無法滿足該要求。因此，目前正在開發(fā)非常復(fù)雜的鍍層系統(tǒng)，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
fischer(菲希爾)中國 庫侖測(cè)厚儀：包括兩個(gè)型號(hào)，Couloscope CMS2 和Couloscope CMS2 STEP
作為測(cè)量鍍層厚度蕞簡(jiǎn)單的方法之一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 應(yīng)用 強(qiáng)大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)。
很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了準(zhǔn)確的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內(nèi)， 很多材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都是無關(guān)緊要的。
蕞常見的應(yīng)用之一就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測(cè)量。
庫侖測(cè)厚儀測(cè)量原理 ：對(duì)應(yīng)型號(hào)Couloscope CMS2
這個(gè)系列儀器根據(jù)DIN EN ISO 2177標(biāo)準(zhǔn)的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測(cè)量面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來決定。對(duì)不同的金屬采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由COULSCOPE儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液蕞佳利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來同時(shí)測(cè)量電位差和多層鎳的鍍層厚度，該方法是這個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)。 應(yīng)用多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設(shè)計(jì)的，它操作簡(jiǎn)單，參比電極使用起來也不復(fù)雜，非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應(yīng)用
STEP 測(cè)量原理(可測(cè)電位差)對(duì)應(yīng)型號(hào)：Couloscope CMS2 STEP 庫侖法測(cè)厚儀（主要有汽車行業(yè)）
STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和化學(xué)電位差）的簡(jiǎn)寫，是已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化很久的測(cè)量方法。它可以同時(shí)測(cè)量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測(cè)量時(shí)用庫侖法來測(cè)量，電位差通過外面鍍一層AgCl的銀參比電極來測(cè)量。電壓曲線可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測(cè)量結(jié)果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個(gè)問題通過特殊的測(cè)量槽得到解決。
銀參比電極被設(shè)計(jì)成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測(cè)量槽底部的外殼與測(cè)量槽蓋連接。測(cè)量槽的設(shè)計(jì)保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。
