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產品簡介
詳細介紹
離子濺射儀
產品介紹：
TT-29-LZ-Ⅱ離子濺射儀是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等儀器進行試樣制備，是開展教學科研實驗的*儀器。
鍍膜原理與結構：
TT-29-LZ-Ⅱ鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產生濺射現象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺上樣品表面成膜，形成導電層。
該為二極結構，以基臺和樣品架為正電極與儀器外殼相連并接地，濺射靶電極為負電極（加負高壓），它們被安裝在玻璃罩的真空腔內，當腔內達到一定真空度，在負高壓的作用下發(fā)生輝光放電產生等離子體，其中正離子在電場加速下，獲得足夠能量轟擊負電極上的靶面，靶面被濺射原子沉淀于基臺的樣品表面形成導電膜，以供上述儀器分析。
技術參數：
1、型號：TT-29-LZ-Ⅱ
1、真空腔：￠150×12 硼酸硅質玻璃
2、濺射靶尺寸：￠55×0.3
3、基臺： ￠50 6-8個樣品
4、極間距調節(jié)范圍20-40mm
5、濺射電壓： -2000V-0 DC連續(xù)可調
濺射電流0-30 mA
6、定時器：0-99分數字顯示
7、真空測量：1×105-1.0×10-1pa 數字顯示，單片機控制，數字顯示，具有真空保護鎖設置。
8、控制系統(tǒng)：單片機控制，完成真空自動測量、顯示、定時器倒計時功能以及自動完成鍍膜程序。
9、真空泵：2L/S二級旋片式直聯(lián)機械泵，極限真空度6×10-1pa
10、充氣閥：金屬微調針型閥 保護氣體 99.9%純度氬氣（推薦）
11、外形尺寸：長354mm ×高216mm ×深340mm
12、電源：AC 220V 50HZ
特點：
1、人性化設計，整體性好；
2、單片機控制，操作方便簡潔；
3、用戶可根據實驗需要自由設置濺射操作的工藝參數，使用靈活、方便；
4、儀器有真空鎖保護設置，使儀器可靠性安全性好；
