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產(chǎn)品簡介
| 保修期限 | 6個月 | 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品成色 | 9成新 | 使用年限 | 1-2年 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油 |
詳細(xì)介紹
二手icp-ms產(chǎn)品特性：
● 快速提高常規(guī)金屬分析效率 — ICP-MS MassHunter 軟件包含預(yù)定義設(shè)置的可簡便加載和運(yùn)行的預(yù)設(shè)方法，預(yù)定義設(shè)置涉及從等離子體條件到分析物積分時間及內(nèi)標(biāo)。對于新方法，方法向?qū)⒏鶕?jù)樣品類型和應(yīng)用建立方法。了解關(guān)于飲用水、環(huán)境廢棄物和制藥產(chǎn)品解決方案中元素雜質(zhì)的更多信息。
● 減少樣品前處理 — 7800 ICP-MS 標(biāo)配*的耐高鹽進(jìn)樣 (HMI) 技術(shù)，無需稀釋即可分析總?cè)芙夤腆w (TDS) 含量高達(dá) 3% 的樣品，減少了樣品前處理并節(jié)省了時間。
● 大限度減小信號抑制 — HMI 能減少信號抑制，因此可以準(zhǔn)確測定高基體樣品而無需標(biāo)樣的基體匹配。
● 有效去除干擾，確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性 — 氦氣 (He) 碰撞模式可在同一套質(zhì)譜條件下去除所有多原子離子干擾，簡化了方法開發(fā)與日常操作。He 模式無需基體特異性或分析物特異性反應(yīng)池條件。
● 在一次運(yùn)行中同時分析常量和痕量元素 — 寬動態(tài)范圍正交檢測器系統(tǒng) (ODS) 可在一次運(yùn)行中實現(xiàn)常量元素（數(shù)百或數(shù)千 ppm）與痕量元素（ppt 或亞 ppt 級）的直接分析。較高的上限濃度可減少由超量程結(jié)果造成的樣品再運(yùn)行。
● 提高通量和分析效率 — 可選的集成式進(jìn)樣系統(tǒng) (ISIS 3) 和 SPS 4 自動進(jìn)樣器可在不影響數(shù)據(jù)質(zhì)量的前提下降低每個樣品的分析成本。
Agilent 7800 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀信息，如您想了解更多關(guān)于Agilent 7800 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀報價、型號、參數(shù)等信息。
二手icp-ms技術(shù)參數(shù)：
1. 靈敏度：
低質(zhì)量數(shù) Li(7): 50 Mcps/ppm；
中質(zhì)量數(shù) Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
(高質(zhì)量數(shù) Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根據(jù)用戶特殊需求，如激光、核工業(yè)、半導(dǎo)體材料等應(yīng)用，可提供超高靈敏度功能
2. 檢測限：
低質(zhì)量數(shù) Be(9): 0.5 ppt；
中質(zhì)量數(shù) In(115): 0.1 ppt
高質(zhì)量數(shù) Bi(209): 0.1 ppt
3. 氧化物干擾: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；
4. 雙電荷干擾: Ce2+/Ce+:3.0 %
5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6. 質(zhì)譜范圍：2 - 260 amu；
7 豐度靈敏度
低質(zhì)量端: 5 x 10-7
高質(zhì)量端: 1 x 10-7
主要特點：
尺寸小的ICP-MS
靈敏度碰撞池-第三代ORS3
氣碰撞池：只用He氣就可以消除所有干擾。
耐高鹽的ICP-MS: HMI技術(shù)（TDS>3%）
ICP離子源技術(shù)：的數(shù)字控制式諧頻ICP發(fā)生器
有機(jī)溶劑進(jìn)樣不熄火！
分析：ISIS-DS技術(shù)
容易維護(hù)和清洗
色譜聯(lián)機(jī)功能：真正的一體化
功能的軟件：MassHunter系統(tǒng)，實現(xiàn)實時QA/QC
偏移標(biāo)示，自動化控制等
低質(zhì)量數(shù) Li(7): 50 Mcps/ppm；
中質(zhì)量數(shù) Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
(高質(zhì)量數(shù) Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根據(jù)用戶特殊需求，如激光、核工業(yè)、半導(dǎo)體材料等應(yīng)用，可提供超高靈敏度功能
2. 檢測限：
低質(zhì)量數(shù) Be(9): 0.5 ppt；
中質(zhì)量數(shù) In(115): 0.1 ppt
高質(zhì)量數(shù) Bi(209): 0.1 ppt
3. 氧化物干擾: CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；
4. 雙電荷干擾: Ce2+/Ce+:3.0 %
5. 同位素比精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6. 質(zhì)譜范圍：2 - 260 amu；
7 豐度靈敏度
低質(zhì)量端: 5 x 10-7
高質(zhì)量端: 1 x 10-7
主要特點：
尺寸小的ICP-MS
靈敏度碰撞池-第三代ORS3
氣碰撞池：只用He氣就可以消除所有干擾。
耐高鹽的ICP-MS: HMI技術(shù)（TDS>3%）
ICP離子源技術(shù)：的數(shù)字控制式諧頻ICP發(fā)生器
有機(jī)溶劑進(jìn)樣不熄火！
分析：ISIS-DS技術(shù)
容易維護(hù)和清洗
色譜聯(lián)機(jī)功能：真正的一體化
功能的軟件：MassHunter系統(tǒng)，實現(xiàn)實時QA/QC
偏移標(biāo)示，自動化控制等
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