等離子體表面處理儀器是通過利用等離子活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的

硅片晶圓等離子清洗機實現對材料表面進行激活、蝕刻、除污等工藝處理, 以及對材料的摩擦因數、粘合和親水等各種表面性能進行改良的目的

硅片晶圓等離子清洗機避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。

晶圓等離子清洗機灰化、去光刻膠、聚合物剝離、預處理、介電質刻蝕、晶圓凸點、有機污染去除、晶圓減薄、

硅晶圓等離子清洗機，芯片等離子清洗設備清洗對象經等離子清洗之后是干燥的，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率。