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[供應(yīng)]“沃特浦”電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水
產(chǎn)地:四川成都
更新時(shí)間:2025-04-30 21:00:08
有效期:2025年4月30日 -- 2025年10月30日
已獲點(diǎn)擊:1498
晶體半導(dǎo)體、集成電路芯片、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、顯示器、液晶顯示制造過(guò)程中的純水、超純水;工藝中清洗用純水。可采用全自動(dòng)預(yù)處理單元,PLC*電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長(zhǎng)、設(shè)備運(yùn)行可靠、低能耗、低噪音。系統(tǒng)設(shè)置手動(dòng)、自動(dòng)沖洗,無(wú)水停機(jī),高低壓保護(hù)及液位控制等功能。
應(yīng)用特點(diǎn):
晶體半導(dǎo)體、集成電路芯片、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、顯示器、液晶顯示制造過(guò)程中的純水、超純水;工藝中清洗用純水??刹捎萌詣?dòng)預(yù)處理單元,PLC*電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長(zhǎng)、設(shè)備運(yùn)行可靠、低能耗、低噪音。系統(tǒng)設(shè)置手動(dòng)、自動(dòng)沖洗,無(wú)水停機(jī),高低壓保護(hù)及液位控制等功能。
產(chǎn)水水質(zhì):
TOC<10ppb PARTICLE達(dá)到0.5μm≤200PCS/L
二氧化硅SiO2<5ppb 電阻率≥18MΩ.cm(25℃)
工藝流程:
預(yù)處理→雙級(jí)反滲透主機(jī)→EDI→拋光混床
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