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前言

我國是世界主要鋁錠進(jìn)出口國之一，而鋁錠作為重要的工業(yè)原料 ，廣泛應(yīng)用于機(jī)械、航空、型 材合金、食品包裝、電線、電纜、耐火材料、催化劑載體、阻燃劑、精密電子工業(yè)以及jian端科學(xué)等眾多 工業(yè)和科研部門，鋁錠中雜質(zhì)元素含量的高低將直接或間接地影響到導(dǎo)電材料的導(dǎo)電及導(dǎo)熱性 能、各種型材合金的質(zhì)量與性能、耐火材料及催化劑載體和阻燃劑的性能與用途等［1］，因此把好進(jìn) 出口鋁錠的質(zhì)量關(guān)顯得尤為重要。 目前鋁錠中雜質(zhì)元素測定的常用方法有原子吸收光譜法 T ISH1306、光度法和極譜法 T ISH1352－T ISH1365、發(fā)射光譜法 T ISH1303、光電光譜分析法 T ISH1305、化學(xué)法 ISO793－795以及國標(biāo) GB6987等，而這些方法中有些是單元素分析，分析手續(xù) 繁瑣，周期較長。 而用 ICP-AES 法直接測定鋁錠中雜質(zhì)元素尚未見有報(bào)道。 由于 ICP光源激發(fā)溫度高，譜線比較豐富，可選擇的譜線范圍大，且可以多元素同時(shí)分析，目前已廣泛在分析測試中使 用，同時(shí)也為了適應(yīng)鋁錠進(jìn)出口檢驗(yàn)快速準(zhǔn)確的實(shí)際需要，因而我們用 ICP-AES 對鋁錠中八種雜 質(zhì)元素同時(shí)測定的方法進(jìn)行了研究，采用基體匹配法進(jìn)行基體干擾校正，采用干擾系數(shù)法扣除元素 間光譜干擾引起的分析偏差，回收率在92．9％－105％之間，相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為0．82％－2．32％，并 對實(shí)際樣品進(jìn)行 ICP-AES 法與其他化學(xué)法對比實(shí)驗(yàn)測定，結(jié)果表明該方法快速、簡便、準(zhǔn)確，這對 進(jìn)出口鋁錠日常檢驗(yàn)的光譜分析具有重要的實(shí)際意義。

• 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀

  檢測儀器在線詢價(jià)