| 產地類別 | 進口 | 產品種類 | 接觸式,便攜式,在線式,固定式,非接觸式,手持式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 1萬-5萬 | 應用領域 | 綜合 |
德國OPTRIS歐普士 工業(yè)自主短波紅外熱像儀 Xi1M
德國OPTRIS歐普士 工業(yè)自主短波紅外熱像儀 Xi1M
Optris Xi 1M 是一款短波紅外熱像儀，擅長對具有挑戰(zhàn)性的物體進行非接觸熱成像。它能夠精確測量熱金屬、鋼鐵、陶瓷和半導體的表面溫度。憑借自主熱測量能力和電動對焦功能，該熱像儀在工業(yè)環(huán)境中提供了可靠性和便利性，無需額外的硬件。它配備了以太網、USB 接口，以及模擬和數字過程接口，實現了與控制系統和機械設備的無縫集成。
工業(yè)以太網短波紅外熱像儀
寬測量范圍從 450°C 到 1800°C，無需子范圍
尺寸小且堅固，配備電動對焦
高動態(tài) CMOS 探測器，分辨率為 396 x 300 像素
自主運行，帶自動熱點查找和直接模擬或報警輸出，并具有多種現場總線通信選項
Optris Xi 1M 是一款短波紅外熱像儀，在非接觸熱成像領域提供了創(chuàng)新、經濟實惠和高精度的性能，專門用于測量具有挑戰(zhàn)性的物體表面溫度。設計在短波紅外范圍內工作（波長：0.85 – 1.1 μm），這款前視紅外熱像儀專為捕捉熱鋼、鐵、黃銅、銅、錫、碳、陶瓷和半導體的精確表面溫度分析而設計。為了滿足各行業(yè)的嚴格要求，Optris Xi 1M 提供了寬廣的高溫測量范圍、準確性和可定制的視場配置。
| 型號 | Xi1M 7°x5° | Xi1M 14°x10° | Xi1M 28°x21° | Xi1M 7°x5° CF |
| 探測器 | ||||
| 光學分辨率 | 全分辨率：396×300 像素（以太網）; 子幀模式：132×100 像素（USB，自主模式）; 線掃描：396×8 像素（以太網）; 線掃描：396×1 像素（以太網，自主模式） | |||
| 像素間距 | 15 µm | |||
| 探測器 | CMOS | |||
| 光譜范圍 | 高溫測量: 0.85 – 1.1 µm | |||
| 光學濾鏡 | 無 | |||
| 幀率 | 20 Hz | |||
| 光學 | ||||
| 視場角 | 7°x5° (396×300 像素) | 14°x10° (396×300 像素) | 28°x21° (396×300 像素) | 7°x5° CF (396×300 像素) |
| 焦距 [毫米] | 50 | 25 | 12 | 50 |
| F值 | 2.8 | 1.8 | 2 | 2.8 |
| 光學分辨率 | 806:1 | 401:1 | 195:1 | 830:1 |
| 到目標的最小距離 | 800 mm | 300 mm | 300 mm | 500 mm |
| 可更換光學器件 | No | |||
許多由非光亮材料組成的測量物體在長波紅外光譜范圍內顯示出較高且相對恒定的發(fā)射率，而這些材料在長波紅外波段的低發(fā)射率會導致測量結果的不穩(wěn)定和不可靠。短波 Xi 1M 紅外熱像儀的光譜范圍與大多數金屬材料的最高發(fā)射率相匹配，從而簡化了遠程溫度測量。此外，根據普朗克輻射定律，在短波范圍內發(fā)射的紅外輻射顯著增加，因此線性發(fā)射率問題對短波溫度測量結果的重復性影響較小。因此，在考慮到較高的溫度測量范圍時，對高溫光亮材料的非接觸溫度測量應盡可能使用短波段。
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