化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制冷設(shè)備>冷水機(jī)/冷卻循環(huán)水機(jī)>FLTZ-1004W 刻蝕鍍膜車間用Chiller丨純水循環(huán)控溫0.5℃
FLTZ-1004W 刻蝕鍍膜車間用Chiller丨純水循環(huán)控溫0.5℃
參考價(jià) | ¥ 189980 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
- 品牌 冠亞恒溫
- 型號(hào) FLTZ-1004W
- 產(chǎn)地 江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/3/20 11:21:56
- 訪問次數(shù) 42
聯(lián)系方式:劉經(jīng)理13912479193 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應(yīng)釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機(jī)、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、低溫冷凍機(jī)、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-50萬 |
---|---|---|---|
冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
刻蝕鍍膜車間用Chiller丨純水循環(huán)控溫0.5℃
刻蝕鍍膜車間用Chiller丨純水循環(huán)控溫0.5℃
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,沉積工藝是構(gòu)建芯片結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一,而半導(dǎo)體沉積工藝溫控裝置 chiller對(duì)工藝的正常運(yùn)行起著作用。正確使用 chiller,有助于提升半導(dǎo)體產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
在沉積工藝啟動(dòng)前,依據(jù)半導(dǎo)體材料特性與沉積工藝要求,仔細(xì)設(shè)置chiller的溫度參數(shù)。不同的沉積薄膜,其生長(zhǎng)所需的適宜溫度不一樣,溫度出現(xiàn)偏差,就可能致使薄膜厚度不均,甚至造成晶格結(jié)構(gòu)紊亂。通常,對(duì)于常見的化學(xué)氣相沉積工藝,溫度需控制,盡量將偏差控制在較小范圍內(nèi),防止因疏忽引發(fā)產(chǎn)品質(zhì)量問題。
Chiller所采用的冷卻介質(zhì),如水、乙二醇混合液等,得與半導(dǎo)體制造環(huán)境及工藝需求相匹配。水是較優(yōu)選擇,但在部分低溫或?qū)Ψ栏g要求高的場(chǎng)景下,需調(diào)配乙二醇溶液。調(diào)配時(shí),要把控乙二醇的濃度,濃度過高,介質(zhì)黏度過大,會(huì)影響冷卻液循環(huán)效率,讓泵機(jī)負(fù)荷加重;濃度過低,又無法滿足低溫防凍需求。同時(shí),要定期檢測(cè)冷卻介質(zhì)的電導(dǎo)率、酸堿度等指標(biāo),電導(dǎo)率超標(biāo)意味著介質(zhì)里雜質(zhì)變多,可能在管道、熱交換器表面形成沉積物,降低熱傳遞效果,建議每月至少檢測(cè)一次,保證介質(zhì)的純凈度。
在沉積工藝進(jìn)行期間,實(shí)時(shí)留意設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài)。通過控制面板觀察溫度實(shí)時(shí)波動(dòng)、壓力變化以及泵機(jī)轉(zhuǎn)速等參數(shù)。溫度波動(dòng)過大,或許是制冷系統(tǒng)故障、熱負(fù)荷突變或溫控傳感器損壞造成的,一旦察覺溫度超出合理波動(dòng)范圍,應(yīng)馬上暫停沉積工藝,排查故障根源。壓力異常升高可能是管路堵塞、冷凝器散熱不佳,壓力過低說不定是冷卻液泄漏,任何細(xì)微的壓力異常都得及時(shí)處理。此外,泵機(jī)作為冷卻液循環(huán)的動(dòng)力源,要是出現(xiàn)異常振動(dòng)、運(yùn)行聲音變大的情況,大概率是軸承磨損、葉輪失衡,迅速停機(jī)檢修,避免冷卻液循環(huán)中斷,給沉積過程帶來影響。
維定期保養(yǎng)可以維持良好性能。日常清潔,擦拭設(shè)備外殼,預(yù)防灰塵進(jìn)入電氣控制柜引發(fā)短路風(fēng)險(xiǎn);定期更換過濾器濾芯,依據(jù)工況定期檢查,確保冷卻液純凈流通。
新安裝或工藝調(diào)整后,半導(dǎo)體沉積工藝溫控裝置 chiller需要與沉積設(shè)備聯(lián)合調(diào)試。監(jiān)測(cè)沉積過程中晶圓表面溫度分布,結(jié)合沉積薄膜質(zhì)量反饋,微調(diào) chiller 控制參數(shù),讓二者匹配良好,保障從初始沉積到薄膜均勻生長(zhǎng)的各個(gè)階段。
相關(guān)分類
該廠商的其他產(chǎn)品
- ETCU-050W 晶圓級(jí)Chiller丨支持Chiplet封裝冷卻方案
- ETCU-030W 光刻機(jī)用超純水Chiller丨助力晶圓良率提升
- ETCU-015W 半導(dǎo)體晶圓制造用Chiller丨光刻機(jī)溫控0.1℃
- ETCU-005W 半導(dǎo)體冷水機(jī)丨晶圓制造±0.1℃精密Chiller
- FLTZ-808 Chiller制冷系統(tǒng)在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的應(yīng)用場(chǎng)景
- FLTZ-807 半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)精密溫控chiller的需求分析
- FLTZ-806 Chiller在半導(dǎo)體設(shè)備中的應(yīng)用價(jià)值
- FLTZ-805 Chiller制冷技術(shù)為半導(dǎo)體行業(yè)提供解決方案