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PLD-T VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國(guó)VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機(jī),PLD-T 脈沖激光器,沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng),可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。它可以將復(fù)雜材料和晶體結(jié)構(gòu)沉積到基板上,只需很少的設(shè)置。
脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的非熱燒蝕,并保持靶材的化學(xué)計(jì)量。通過應(yīng)用這種方法,它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T
熱蒸發(fā)源

(舟/籃/盤管)

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個(gè)獨(dú)立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設(shè)計(jì)不會(huì)使污染物從源材料轉(zhuǎn)移到其他材料。源架的長(zhǎng)度可在 5~10 cm 范圍內(nèi)調(diào)節(jié),滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機(jī)

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