化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>干法工藝設(shè)備>等離子體刻蝕設(shè)備>RIE-10NR 日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
RIE-10NR 日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
| 參考價(jià) | ￥10000000-￥20000000/件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 似空科學(xué)儀器（上海）有限公司
- 品牌其他品牌
- 型號(hào)RIE-10NR
- 所在地上海市
- 廠(chǎng)商性質(zhì)代理商
- 更新時(shí)間2023/8/11 13:38:30
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 1827
產(chǎn)品標(biāo)簽
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失效分析，芯片開(kāi)封，表面觀(guān)測(cè)，金相研磨，光學(xué)及視頻顯微鏡，超聲波檢測(cè)，X射線(xiàn)檢測(cè)，激光微納加工等
| 晶圓尺寸 | 8英寸 | 尺寸 | 500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
|---|---|---|---|
| 反應(yīng)室尺寸 | φ340mm |
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
SAMCO RIE-10NR
簡(jiǎn)介： RIE-10NR是一種新型的低成本、 高性能、全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)， 能夠滿(mǎn)足非腐蝕性氣體化學(xué)最KE刻 的工藝要求。 計(jì)算機(jī)化觸摸屏為工藝配方編 程和存儲(chǔ)提供了用戶(hù)友好的界面。 該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪 廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。 憑借其圓滑、緊湊的設(shè)計(jì)， RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。 應(yīng)用: 硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、 砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的 腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。 |  |
主要功能和優(yōu)點(diǎn)：
1、加工至?220 mm（?3“x 5，?4”x 3，?8”x 1）。
2、高選擇性各向異性蝕刻滿(mǎn)足嚴(yán)格的工藝要求全自動(dòng)“一鍵式”操作。
3、自動(dòng)壓力控制，允許獨(dú)立于氣流干泵和系統(tǒng)布局的過(guò)程壓力精確控制，便于維護(hù)。
4、于Windows的用戶(hù)界面，豐富的配方和內(nèi)置的數(shù)據(jù)記錄功能，是一個(gè)可靠和持久的系統(tǒng)，全球安裝了400多個(gè)系統(tǒng)。
主要參數(shù)規(guī)格： | |
基板 | 220 mm（?3“x 5，?4”x 3，?8”x 1） |
負(fù)載 | 開(kāi)放式 |
上下電極 | ?240 mm |
射頻功率 | 300瓦@13.56兆赫，自動(dòng)匹配（500瓦為選項(xiàng)） 可切換射頻供電電極（陽(yáng)極/陰極模式）為選項(xiàng) |
氣體管道 | 內(nèi)部2條MFC控制的氣體管道（最多6條） |
泵 | 干泵（500升/分鐘） |
操作系統(tǒng) | 觸摸屏操作（可選擇基于Windows的用戶(hù)界面）、配方管理 |
端點(diǎn)檢測(cè) | 光學(xué)發(fā)射光譜（OES）作為一種選擇 |
尺寸 | 500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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