賽默飛Nexsa™ X 射線光電子能譜儀材料分析和開發(fā)

Nexsa 能譜儀具有分析靈活性，可最大限度地發(fā)揮材料潛能。在使結(jié)果保持研究級(jí)質(zhì)量水平的同時(shí)，以可選多技術(shù)聯(lián)合的形式提供靈活性，從而實(shí)現(xiàn)真正意義上多技術(shù)聯(lián)合的分析檢測(cè)和高通量。

賽默飛Nexsa™ X 射線光電子能譜儀標(biāo)準(zhǔn)化功能催生強(qiáng)大性能： 

·         絕緣體分析

·         高性能XPS性能

·         深度剖析

·         多技術(shù)聯(lián)合

·         雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴(kuò)展

·         用于 ARXPS 測(cè)量的傾斜模塊

·         用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生產(chǎn)的 Avantage 軟件

·         小束斑分析

可選的升級(jí)：可將多種分析技術(shù)集成到您的檢測(cè)分析中。式自動(dòng)運(yùn)行

·         ISS：離子散射譜，分析材料最表面1-2原子層元素信息，通過(guò)質(zhì)量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·         UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導(dǎo)體材料的價(jià)帶能級(jí)結(jié)構(gòu)信息以及材料表面功函數(shù)信息

·         拉曼：拉曼光譜技術(shù)用于提供分子結(jié)構(gòu)層面的指紋信息

·         REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測(cè)以及材料能級(jí)結(jié)構(gòu)和帶隙信息

借助 SnapMap 的光學(xué)視圖，聚焦于樣品特征。光學(xué)視圖可以幫助您快速定位感興趣區(qū)域，同時(shí)生成聚焦的 XPS 圖像，以進(jìn)一步設(shè)置您的實(shí)驗(yàn)。

1.X 射線照射樣品上的一個(gè)小區(qū)域。

2.收集來(lái)自這一小區(qū)域的光電子并將其收集于分析儀

3.隨著樣品臺(tái)的移動(dòng)，不斷收集元素圖譜

4.在整個(gè)數(shù)據(jù)采集過(guò)程中監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)位置，這些位置的圖譜成像用來(lái)生成 SnapMap 

賽默飛Nexsa™ X 射線光電子能譜儀應(yīng)用領(lǐng)域 

·         電池

·         生物醫(yī)藥

·         催化劑

·         陶瓷

·         玻璃涂層

·         石墨烯

·         金屬和氧化物

·         納米材料

·         OLED

·         聚合物

·         半導(dǎo)體

·         太陽(yáng)能電池

·         薄膜