CVD鍍膜系統(tǒng)
- 公司名稱 武漢賽斯特精密儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/10/11 14:11:14
- 訪問次數(shù) 486
積鍍膜設(shè)備原子層沉積系統(tǒng)供應(yīng)原子層沉積系統(tǒng)價(jià)格CVD原子層沉積系統(tǒng)
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實(shí)驗(yàn)室檢測儀器，測試儀器設(shè)備等
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
|---|
CVD鍍膜系統(tǒng)的知識(shí)介紹：
現(xiàn)場升級到可使用等離子體
從小晶片到200mm大晶片
適用于學(xué)術(shù)、產(chǎn)業(yè)、研發(fā)的熱和/或等離子體化學(xué)產(chǎn)品，可用于：
氧化物：HfO2，Al2O3，TiO2，SiO2，ZnO，Ta2O5
氮化物：TiN，Si3N4
金屬：Ru，Pt
ALD應(yīng)用舉例：
納米電子學(xué)
高k柵極氧化物
存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢壘區(qū)
有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層
鈍化晶體硅太陽能電池
應(yīng)用于微流體和MEMS的高保形涂層
納米孔結(jié)構(gòu)的涂層
生物微機(jī)電系統(tǒng)
燃料電池
直觀性強(qiáng)的的軟件提高性能
使用與牛津儀器的值得信賴的Plasmalab®產(chǎn)品家族相同的軟件平臺(tái)，OpAL的程序驅(qū)動(dòng)、多用戶級別、PC2000TM控制的軟件易于操作且可為快速ALD做相應(yīng)修改。
CVD鍍膜系統(tǒng)向世界范圍內(nèi)的生產(chǎn)商和研發(fā)者提供沉積工藝解決方案的經(jīng)驗(yàn)為我們提供了世界上強(qiáng)大沉積工藝庫和沉積工藝能力。以下是牛津儀器等離子技術(shù)可以提供的一些沉積工藝的一個(gè)范例。討論您的特定需求，我們專業(yè)的銷售和應(yīng)用工作人員將很高興幫助您選擇合適的沉積工藝和工具，以滿足您的需求。
電介質(zhì)
沉積SiO2—沉積二氧化硅
沉積SiN—沉積氮化硅
二氧化硅(SiO2)的反應(yīng)離子束濺射沉積(RIBD)技術(shù)
金屬氮化物
沉積HfN—沉積氮化鉿（遠(yuǎn)程等離子體*輔助）
金屬氧化物
沉積Al2O3-沉積三氧化二鋁
高品質(zhì)光學(xué)鍍膜：二氧化硅，五氧化二鉭
二氧化鉿反應(yīng)離子束沉積（HfO2 RIBD）
沉積La2O3—沉積氧化鑭
離子束沉積VaO( 5-x )--沉積氧化釩Deposition
ZnO ALD（單熱型）—沉積氧化鋅原子層
沉積ITO—沉積銦錫氧化物—磁控濺射
金屬
濺射沉積Al—濺射沉積鋁
沉積Ru—沉積釕
其他
沉積a-Si—沉積非晶硅（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和化學(xué)氣相沉積SiGe—沉積鍺硅
沉積PolySi—沉積多晶硅
沉積SiC—沉積碳化硅
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積DLC—沉積類金剛石膜
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