CTS AP-200 CMP化學(xué)機械拋光機
- 公司名稱 北京億誠恒達(dá)科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2021/7/29 11:06:53
- 訪問次數(shù) 716
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萬能材料試驗機，疲勞試驗機，沖擊試驗機，電化學(xué)工作站，恒電位/恒電流儀，石英晶體微天平，三維形貌儀，輪廓儀，原子力顯微鏡（AFM），掃描探針顯微鏡（SPM），摩擦磨損試驗機，瓶蓋扭矩測量儀，軸承扭矩測量儀，高頻疲勞試驗機
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,農(nóng)林牧漁,石油 |
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CTS AP-200 CMP化學(xué)機械拋光機
主要技術(shù)參數(shù)：
- 拋光平臺轉(zhuǎn)速：0-200 rpm
- 拋光頭載體轉(zhuǎn)速：0-200 rpm
- 整理器轉(zhuǎn)速：0-150 rpm
- 拋光液流速：20-500 cc/min
- 整理器下壓力：2- 20 lbs
2. 工藝數(shù)據(jù)可實時監(jiān)測；
3.多種拋光液 & 高壓去離子水系統(tǒng)
- 內(nèi)置兩個共給拋光液的泵單元
- 拋光液材質(zhì)：氧化物，鎢，銅，二氧化鈰等
- 流量：20?500cc / min
- 雙排噴嘴排列布置，具有高壓清潔效果
- 通過各種不同噴嘴角度，更干凈的清洗拋光墊
CTS AP-200 CMP化學(xué)機械拋光機
應(yīng)用領(lǐng)域：
- ILD（層間電介質(zhì)）CMP，IMD（金屬間電介質(zhì)）CMP，氧化物CMP，多晶硅CMP，鎢CMP，銅CMP
- 半導(dǎo)體CMP 工序（Semiconductor CMP）
- MEMS CMP
- 高校及科研院所高品質(zhì)科研測試（University, Lab _High Quality Performance Test）
- 晶片研磨代工企業(yè)（Wafer Polishing Service）
- CMP耗材研發(fā)企業(yè)（CMP Consumable Parts），CMP拋光液，金剛石研磨墊整理器，CMP研磨墊
售后服務(wù)
免費上門安裝：是
保修期：1年
是否可延長保修期：是
保內(nèi)維修承諾：設(shè)備保修期內(nèi)不收取零部件及其它費用，實行保修服務(wù)。并提供設(shè)備終身售后服務(wù)
報修承諾：接到用戶通知后，2小時內(nèi)做出響應(yīng)，24小時內(nèi)給出明確解決方案
免費儀器保養(yǎng)：用戶使用半年后，將安排一次應(yīng)用培訓(xùn)以使用戶達(dá)到熟練使用設(shè)備程度
免費培訓(xùn)：3人次現(xiàn)場培訓(xùn)
現(xiàn)場技術(shù)咨詢：有
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