原理：

濺射功能依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。

熱蒸發(fā)功是能通過(guò)對(duì)碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝。

參數(shù)：

2  儀器尺寸 ：主機(jī)    300mm×360mm×380mm（W×D×H）

              蒸鍍  300mm×360mm×160mm（W×D×H）

2  真空樣品室： 玻璃腔體 160mm×110mm（D×H）

2  靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

2  濺射靶 ：二極直流濺射靶 （標(biāo)配）磁控靶（選配）    

2  濺射靶材：Au

2  濺射靶材大?。害?/span>50mm

2  樣品臺(tái)：50mm (D)

2  濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)

2  濺射電流：0-50 mA (磁控0-100mA)

2  濺射定時(shí)：0-999S

2  蒸碳電流    0-100A(AC)

2  蒸發(fā)材料：碳纖維

2  蒸發(fā)工作電壓：0-30V

2  蒸發(fā)時(shí)間：0-1S

2  微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

2  可通入氣體： 多種

2  真空泵：    2升機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（國(guó)產(chǎn)VRD-8）

2  速率：0--10nm/min（磁控0—60nm/min）

用途：

1、適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）觀察前對(duì)樣品的噴金、噴鉑、噴碳等。

2、非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作（噴金、噴鉑、噴銀等）

3、其他可以滿足條件的鍍膜實(shí)驗(yàn)。

特點(diǎn)：

1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小（顆粒大小約4-20nm）。

3、SETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。

4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。

5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

6、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。

7、獨(dú)立的濺射、蒸發(fā)上蓋和玻璃腔體防止交叉污染。

8、一體機(jī)更加經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。

9、碳纖維繩更加細(xì)膩均勻、快速，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)。

10、濺射蒸發(fā)功能轉(zhuǎn)換方便快捷。