2016年4月21-23日 上海世博展覽館(浦東新區(qū)國展路1099號(hào))
主辦單位: 支持單位:
中華人民共和國商務(wù)部 UNIDO聯(lián)合國工業(yè)發(fā)展組織
中華人民共和國科學(xué)技術(shù)部 UNDP聯(lián)合國開發(fā)計(jì)劃署
中華人民共和國*局 WIPO世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織
上海市人民政府
承辦單位: 中國•單位:
上海市國際技術(shù)進(jìn)出口促進(jìn)中心 國家發(fā)展與改革委員會(huì)
中國機(jī)電產(chǎn)品進(jìn)出口商會(huì) 國家環(huán)境保護(hù)總局
東浩蘭生集團(tuán)上海外經(jīng)貿(mào)商務(wù)展覽有限公司 美國機(jī)械工程學(xué)會(huì)-中國
企榮(上海)展覽服務(wù)有限公司 中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)
【展會(huì)概況】
在這個(gè)信息速度堪比光速的社會(huì),準(zhǔn)確的大數(shù)據(jù),才是智能的基礎(chǔ)。傳感器的出現(xiàn),有利于獲取海量數(shù)據(jù),賦予“智能”新的含義,讓一個(gè)漫長的“傳統(tǒng)工業(yè)”時(shí)代變得“鮮活”,步入感知世界。
近年來,智能手環(huán)、谷歌眼鏡等電子穿戴設(shè)備熱賣,智能開關(guān)、溫控器等智能家居興起,無人機(jī)等航空航天器材備受資本青睞……傳感器已滲透到各個(gè)領(lǐng)域。傳感技術(shù)的進(jìn)步不但可以提高智能時(shí)代的質(zhì)量水平,更能有力地促進(jìn)經(jīng)濟(jì)發(fā)展、社會(huì)“智慧”。近年來,隨著世界范圍內(nèi)信息技術(shù)的快速發(fā)展,傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)產(chǎn)業(yè)是重中之重,發(fā)展傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)尤為重要。為了傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)健康良好的發(fā)展,推進(jìn)傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)在相關(guān)領(lǐng)域的應(yīng)用,主辦單位邀請(qǐng)各相關(guān)單位特舉辦“2016中國國際傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)產(chǎn)品技術(shù)應(yīng)用展覽會(huì)”,旨在搭建國際傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)的展示交流的平臺(tái),促進(jìn)上下游的合作,為加快發(fā)展我國戰(zhàn)略性傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)做貢獻(xiàn)。
【展會(huì)日程】
報(bào)到布展:2016年4月19到20日 展示交易:2016年4月21到23日
開幕儀式:2016年4月21日上午10:00 閉幕撤展:2016年4月23下午3:00
【展示范圍】
1、MEMS器件
光學(xué)MEMS:反射、光量開關(guān)、掃描、微型構(gòu)件、微機(jī)械光學(xué)器件射頻MEMS、開關(guān)、振蕩器、過濾等;
射頻MEMS:開關(guān),振蕩器/諧振器、過濾等;
MEMS傳感器:加速度計(jì)、軸傳感器、陀螺儀、壓力傳感器、重力傳感器、角速度傳感器、位移傳感器、觸摸傳感器、氣體傳感器、溫度傳感器、磁力計(jì)、磁傳感器、電子羅盤、濕度傳感器、流量傳感器、振動(dòng)傳感器、電容傳感器、電學(xué)傳感器、傾角傳感器、機(jī)械傳感器、硅麥克風(fēng)、圖像傳感器、MEMS慣性傳感器、MEMS微鏡、MEMS慣性測(cè)量單元、BAW濾波器和雙工器、微射流、微流引導(dǎo)、微感應(yīng)器等;
MEMS執(zhí)行器:生物芯片、材料芯片、燈、泵、微流控芯片;
MEMS電能:燃料電池,微發(fā)電機(jī)等;
生物/化學(xué)MEMS:DNA/RNA技術(shù),化學(xué)檢測(cè)等、MEMS晶振;
高復(fù)合型MEMS:CMOS/MEMS,LSI/MEMS 一體化、MEMS IP等;
MEMS應(yīng)用:MEMS傳感器解決方案、麥克風(fēng),顯示等、超微型機(jī)械人裝置、微型工廠等、傳感器網(wǎng)絡(luò)、能量收集等;
2、生物MEMS與醫(yī)療應(yīng)用:MEMS技術(shù)在醫(yī)療處理及診斷方面的應(yīng)用、DDS、納米膠囊;DNA&RNA技術(shù)、微反應(yīng)器、微流引導(dǎo)、微流控芯片等;
3、MEMS加工設(shè)備
光刻設(shè)備:半導(dǎo)體激光直寫光刻、投影掃描光刻機(jī)等、無掩膜光刻設(shè)備、曝光系統(tǒng)、雙面測(cè)試系統(tǒng);
鍍膜設(shè)備:磁控濺射鍍膜設(shè)備、離子束濺射鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、多弧離子鍍膜設(shè)備、真空鍍膜設(shè)備、涂層設(shè)備、薄膜成形、汽相淀積、濺射、光罩繪圖機(jī);
沉積設(shè)備: GaN外延沉積用MOCVD設(shè)備;原子層沉積設(shè)備;等離子沉積設(shè)備;液態(tài)源沉積設(shè)備等;
刻蝕設(shè)備:反離子刻蝕設(shè)備、ICP刻蝕設(shè)備、MEMS干法/濕法工藝系統(tǒng)、深反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備等;
清洗設(shè)備設(shè)備:等離子清洗設(shè)備、UV-O3清洗設(shè)備、光掩膜清洗設(shè)備等;
晶圓片鍵合:晶圓切割、芯片/導(dǎo)線焊接、涂膠、勻膠、去膠設(shè)備、烘烤、顯影、對(duì)準(zhǔn)工藝設(shè)備、擴(kuò)散爐、微成形(注射,熱壓)、離子注入機(jī)等其他生產(chǎn)設(shè)備等;
分析與檢測(cè)儀器:光罩缺陷檢測(cè)、半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備、封裝檢測(cè)、表面分析儀器、粗糙度儀、粗糙度檢測(cè)儀、圓度儀、質(zhì)譜儀、硅片探針臺(tái)、掃描電子顯微鏡、薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng);顯微設(shè)備:光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡、探針顯微鏡、電子能譜儀;檢漏儀器、靜電負(fù)離子空氣凈化機(jī);氣體分析及檢測(cè)、分析和測(cè)量系統(tǒng)等;
4、MEMS代工/封測(cè):MEMS中式平臺(tái);仿真設(shè)計(jì)、原型測(cè)試、產(chǎn)品開發(fā)、量產(chǎn);其他代工服務(wù):圖案形成、薄膜形成、雷射、離子脈沖加工、噴鍍;封裝:MEMS封裝、裝配、測(cè)試和校準(zhǔn);
【參展程序】
展位順序分配原則:“先申請(qǐng)、先付款、先安排”。貴單位如欲報(bào)名參展,請(qǐng)索取《參展申請(qǐng)及合約表》,填寫申請(qǐng)表加章后傳真至組委會(huì)。在申請(qǐng)展位五個(gè)工作日內(nèi)將參展費(fèi)用全款或50%定金電匯至組委會(huì)*賬戶,余款將于開展45日前付清。
1、展位收費(fèi):
展位類型標(biāo)準(zhǔn)展位(9㎡)角標(biāo)準(zhǔn)展位(9㎡)光地(少36㎡)
國內(nèi)企業(yè) 15800元/展位 / RM17800元/展位 / RM1300元/㎡
國外企業(yè)4000美元/個(gè)展位 4500美元/個(gè)展位500美元/㎡
注:A. 標(biāo)準(zhǔn)展位配備:標(biāo)準(zhǔn)展臺(tái)(規(guī)格:3x3米),展位備注:高2.5米、三面圍板、展位地毯鋪設(shè)、中英文雙語楣板字、咨詢桌一張、折椅兩把、廢紙簍一個(gè)、射燈或日光燈兩個(gè)、220V 插座一個(gè)、展位每日保潔、會(huì)刊登錄、參展商證件。
參展事項(xiàng):
1、請(qǐng)?jiān)敿?xì)填寫《參展報(bào)名表》,簽字并加蓋公章后傳真或郵寄至組委會(huì)。
2、展位安排原則:“先申請(qǐng)、先預(yù)定、先付款、先確定”協(xié)辦單位可優(yōu)先安排。
3、有關(guān)展品運(yùn)輸、酒店接待、展臺(tái)搭建等具體事項(xiàng),將于會(huì)前三十天將《參展商手冊(cè)》寄送至各參展商。
2016中國國際傳感器與微系統(tǒng)(MEMS)產(chǎn)品技術(shù)應(yīng)用展覽會(huì)秘書處
地 址:上海市青浦區(qū)華徐路888號(hào)1號(hào)樓7018室
電 話:021-60421324 聯(lián)系人:柴明奎 18611082002
傳 真:021-31575512 郵 箱:305767789@qq.com